水裂解實訓裝置生產工藝原理
裂解過程，就是把線型的聚硅氧烷在催化劑（KOH）作用和真空加熱條件下，解聚重排，使線型的聚硅氧烷生成含有一定鏈節數的環狀硅氧烷。
2、生產工藝過程
水解物貯罐物料經24小時沉降后，由裂解釜進料泵加壓輸送，經水解物預熱器預熱至120℃,并經流量調節，與50％KOH飽和溶液混合進入裂解釜。控制配比，水解物：50％KOH＝1：0.0025（V/V）。裂解釜為一帶螺旋盤管傳熱內構件的攪拌釜，夾套采取蒸汽壓力自調，內盤管則采用溫度調節。在攪拌作用下，釜中水解物和KOH溶液充分混合，并進行催化裂解反應。裂解釜的參數控制為：溫度為(142-147)℃，真空度為--0.095MPa以上。
裂解反應的結果是線性重排，生成一種以D4為主要組成的環狀物，它的蒸汽直接去裂解塔，自底端進入與塔頂回流液在塔板進行汽液交換，蒸汽經裂解塔后再進入冷凝器,冷凝器采用循環水為冷卻介質，控制物料出口的溫度為40℃。冷凝下來的液相混合環體進入裂解回流罐,再由回流泵加壓后，部分經流量調節閥回流入塔，并控制回流比R＝0.25，部分由回流罐液位調節閥，送入凈化系統中的一次水煮釜。同時來自軟水站經的軟水，經流量自調FIC，并經軟水預熱器預熱到90℃后，也送入水煮釜。環體：水＝1:1(V/V),在水煮釜攪拌作用下，混合環體和軟水在釜內充分混合后，再溢流進入一次分水器分層。通過LIC界面調節，讓分水器保持一定油層，上層為油相，油相溢流入二次水煮釜, 下層為水相，少量游離氯和硅醇鉀雜質隨水排入水解系統最后進入沉降池。 同時來自軟水站的軟水，經流量自調FIC，并經軟水預熱器預熱到90℃后，也送入二次水煮釜。環體：水＝1:1(V/V),在二次水煮釜攪拌作用下，混合環體和軟水在釜內充分混合后，再溢流進入二次分水器分層。凈化后的油相則進入環體貯罐。在環體儲罐內經過一段是時間靜置沉淀后送至精制單元進行精制。下層水相進入水解系統最后排入沉降池。
在裂解釜內裂解殘液，間歇排入逼干釜逼干，逼干釜溫度通過溫度調節閥控制在150-160℃，真空度為0.097MPa，蒸出的氣相環體，經逼干釜環體冷卻器，進入逼干釜環體收集罐，逼干油須定期由逼干釜環體輸送泵打入水解物儲罐，逼干釜內殘渣主要為硅醇鉀鹽，加水溶解反應后，送入渣漿池并運往外界。
