純水設備介紹適用場合 ：半導體材料/器件、印刷電路板/集成電路、LCD/PDP/TFT、玻殼/顯象管/超純材料、光導纖維/光盤/汽車/清洗水/實驗室；
純水設備介紹工藝流程：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 （≥18MΩ.CM）(傳統工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(工藝)
3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(工藝)
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(工藝)
5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)以上工藝各有各的優勢，你可以根據你自身的情況選購適合你的工藝。隨著科學的發展，很多新的工藝已經替代了舊的工藝，反滲透法制取高純水已經普及，也是現今的工藝。
純水設備介紹工作原理：
電去離子(EDI)系統主要是在直流電場的作用下，通過隔板的水中電介質離子發生定向移動，利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質進行提純的一種科學的水處理技術。電滲析器的一對電極之間，通常由陰膜，陽膜和隔板(甲、乙)多組交替排列，構成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜)。
我們應當在取水的時候注意以下幾點：
1、純水設備應當7-10天進行一次通水，進行沖洗，防止細菌滋生。
2、長期不適用的情況下需要將純水機、水箱內的水全部排放空。
3、純水設備取水時，初期的純水和超純水應當排放掉，等水質穩定后再進行取水。
4、請勿將純水機和儲水箱放置在陽光直射的地方，防止其細菌滋生。
能夠減少純水設備微生物增長的方法有以下幾種：
1、經常保證純水設備的定期開機循環，讓管道內進入流水循環。
2、定期進行耗材的更換，定期檢查水質情況，當水質不合格時及時進行更換，可以有效的降低微生物的生長。
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