白光干涉儀AE-100M

產品用途：

     結合光學顯微鏡與白光干涉儀功能的掃描式白光干涉顯微鏡，結合顯微物鏡與干涉儀、不需要復雜光調整程序，兼顧體積小、納米分辨率、易學易用等優點，可提供垂直掃描高度達400um的微三維測量，適合各種材料與微組件表面特征和微尺寸。應用領域包含：玻璃鏡片、鍍膜表面、晶圓、光碟/影碟、精密微機電元件、平面液晶顯示器、高密度線路印刷電路板、IC封裝、材料分析與微表面研究等。

產品特點：

● 納米深度3D
● 高速、無接觸量
● 表面形狀、粗糙度分析
● 非透明、透明材質皆適用
● 非電子束、非雷射的安全量測
● 低維護成本

級的3D圖形處理與分析軟體（Post Topo）

●  提供多功能又具友好界面的3D圖形處理與分析
●  提供自動表面平整化處理功能
●  提供高階標準片的軟件自校功能
●  深度、高度分析功能提供線型分析與區域分析等兩種方式
●  線型分析方式提供直接追溯ISO定義的表面粗糙度（Rorghness）與起伏度
●  （waviness）的測量分析。可提供多達17種的ISO量測參數與4種額外量測數據（Wafer）
●  區域分析方式提供圖形分析與統計分析
●  具有平滑化、銳化與數字過濾波等多種二維快速利葉轉換（FFT）處理功能
●  量測分析結果以BMP   相關產品：