測量技術與儀器涉及所有物理量的測量，對于材料、工程科學、能源科學關系密切。目前的發展趨勢有以下幾點：
　　
　　1以自然基準溯源和傳遞，同時在不同量程實現比對。如果自己沒有能力比對就要依靠其它國家。
　　
　　2高精度。目前半導體工藝的典型線寬為0.25μm，并正向0.18μm過渡，2009年的預測線寬是0.07μm。如果定位要求占線寬的1/3，那么就要求10nm量級的精度，而且晶片尺寸還在增大，達到300mm。這就意味著測量定位系統的精度要優于3×10的－8次方，相應的激光穩頻精度應該是10的－9次方數量級。
　　
　　3高速度。目前加工機械的速度已經提高到1m/sec以上，上世紀80年代以前開發研制的儀器已不適應市場的需求。例如惠普公司的干涉儀市場大部分被英國Renishaw所占領，其原因是后者的速度達到了1m/sec。
　　
　　4高靈敏，高分辨，小型化。如將光譜儀集成到一塊電路板上。
　　
　　5標準化。通訊接口過去常用GPIB、RS232，目前有可能成為替代物的高性能標準是USB、IEEE1394和VXI。現在，技術者設法控制技術標準，參與標準制訂是儀器開發的基礎研究工作之一。
　　
　　我國儀器科技的發展現狀
　　
　　（1）由于長期習慣于仿制國外產品，我國的儀器儀表工業缺乏創新能力，跟不上科學研究和工程建設的需要。
　　
　　（2）我國儀器科學與技術研究領域積累了大量科研成果，許多成果處于水平，有待篩雪提高和轉化，但產業化程度很低，沒有形成具有競爭力的完整產業。