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連續(xù)式四探針片電阻及光學(xué)膜厚測(cè)量設(shè)備

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品描述：連續(xù)式四探針片電阻及光學(xué)膜厚測(cè)量設(shè)備設(shè)計(jì), 片電阻不受針尖距離影響多種型號(hào)以供選擇

詳細(xì)介紹

連續(xù)式四探針片電阻及光學(xué)膜厚測(cè)量設(shè)備設(shè)計(jì), 片電阻不受針尖距離影響多種型號(hào)以供選擇:
自動(dòng)上下片(Cassette to cassette, C2C)
室溫至100°C 的測(cè)量(更高可選)
可添加并整合于多腔式的集束型架構(gòu)設(shè)備(cluster tool)

亦可在連續(xù)式設(shè)備內(nèi)加入四探針片電阻及光學(xué)膜厚測(cè)量, 適合薄膜太陽能(銅銦鎵硒, CIGS)及平板顯示行業(yè)

基材尺寸:
450mm晶圓 (樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn))
370 x 470mm 長(zhǎng)方形基底 (XY樣品臺(tái))
連續(xù)式設(shè)備可以度身訂做, 沒有尺寸限制
片電阻測(cè)量適合金屬薄膜、銅銦鎵硒、非晶硅(硅)、碲化鎘、鉬、透明導(dǎo)電薄膜(AlZnO2)、摻雜之后的硅(硅)、硅鍺及鍺
0.1 – 100,000 單位面積奧姆值 (更高可選)

可整合于連續(xù)式(INLINE)的生產(chǎn)線內(nèi), 而收集的測(cè)量數(shù)據(jù)可自動(dòng)送到SCADA系統(tǒng)
光學(xué)膜厚測(cè)量功能可選
測(cè)量光斑<1mm
波長(zhǎng): 380-1050nm
可測(cè)量膜厚: 15-50nm, 多可達(dá)250nm
短時(shí)間重復(fù)性: ~0.1nm
長(zhǎng)時(shí)間重復(fù)性:: ~0.1nm