半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線(xiàn)寬越窄，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級(jí)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。 

電子工業(yè)制備超純水的工藝大致分成以下3種：

       1、采用離子交換樹(shù)脂制備電子工業(yè)超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水—多介質(zhì)過(guò)濾器—活性炭過(guò)濾器—精密過(guò)濾器—中間水箱—陽(yáng)床—陰床—混床(復(fù)床)—超純水箱—超純水泵—后置保安過(guò)濾器—用水點(diǎn) 

       2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合制備電子工業(yè)超純水的方式，其基本工藝流程為：原水—多介質(zhì)過(guò)濾器—活性炭過(guò)濾器—精密過(guò)濾器—中間水箱—反滲透設(shè)備—混床(復(fù)床)—超純水箱—超純水泵—后置保安過(guò)濾器—用水點(diǎn) 

       3、采用反滲透設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋涸?mdash;多介質(zhì)過(guò)濾器—活性炭過(guò)濾器—精密過(guò)濾器—中間水箱—反滲透設(shè)備—電去離子(EDI)—超純水箱—超純水泵—后置保安過(guò)濾器—用水點(diǎn)