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半導體廢水深處除氟,這份詳解請收好!

閱讀:1134發布時間:2023-7-26

 在我國的發展過程中,半導體行業是新出現并快速進步的一個生產行業,比如研發集成電路、二極管、晶體管等,也常用于各種電子設備和系統。在半導體行業的生產過程中,由于酸洗作業和濕法刻蝕工序等使用氫氟酸、氟化銨等物料,會產生大量含氟廢水。

這些含氟廢水因含有各種有害物質,不僅會造成環境污染、生態破壞,還會對動植物以及人體產生不良影響,只有將廢水處理進行必要的完善,才能使我國半導體行業的生產競爭能力更強。因而加強半導體行業含氟廢水的處理,是企業亟需解決的環保難題。現有技術常采用加鈣沉淀,但加鈣一般只能將水中的氟離子去除到10-20mg/l,并且存在加藥量大、污泥產量高、水中殘留的鈣離子結垢等問題。

為滿足企業對含氟廢水處理達標、高效、便捷、性價比高的需求,自主研發出深度除氟劑,無論是在運行成本、運行效率、安全性和避免產生二次污染等方面,都有著顯著的應用優勢。



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