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電子行業含氟廢水處理的基本原理與采用的處理工藝

閱讀:2955發布時間:2021-5-26

   電子行業含氟廢水處理的基本原理:
  利用鋁離子的三種機理來去除氟離子,即:
  (1)吸附。鋁鹽絮凝除氟過程中生成的具有很大表面積的無定性Al(OH)3(am)原體對氟離子產生氫鍵吸附,氟離子半徑小,電負性強,這一吸附方式很容易發生。
 
  (2)離子交換。氟離子與氫氧根的半徑及電荷都相近,鋁鹽絮凝除氟過程中,投加到水中的A113O4(0H)147+等聚陽離子及水解后形成的無定性Al(0H)3(am)沉淀,其中的OH-與F-發生交換,這一交換過程是在等電荷條件下進行的。
 
  電子行業含氟廢水處理的工藝:
  此工藝采用的就是傳統的石灰沉淀法,原理是鈣離子和氟離子會生成難溶的氟化鈣沉淀,但是石灰乳因為氫氧化鈣難溶的特性,所以在水中的解離程度很小。
 
  而氯化鈣的溶解度大,提高水中的鈣離子使生成氟化鈣的化學平衡右移,從而提高氟的去除率。
 
  但是對于含氟很高的廢水有時候單單石灰沉淀法是去除不到標準的,因此在石灰沉淀后再設PAC沉淀,一方面是對上一段出水較難沉淀的氟化鈣進行絮凝沉淀處理;
 
  另一方面,PAC對于氟離子亦有去除作用,其機理比較復雜,主要有吸附、離子交換、絡合沉降三種作用機理,在此不深入研究。
 
  因此,通過兩步的物理處理手段,一般可達到處理目標。需要注意的是,處理過程中產生的污泥要交由有資質的處理單位處理或者回收等。

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