高純水設備電子行業超純水設備適用于集成電路芯片、單晶硅、顯像管、液晶顯示器、計算機硬盤、線路板等工藝所需的純水和高純水設備.在嚴格執行ISO-9001質量體系標準的前提下,采用世界上*的反滲透膜元件.壓力容器和高壓泵、配以合理而又高效的前處理設備及后處理設備,使產品出水符合各類電子行業生產標準的超純水.控制系統選用PLC或計算機DCS程序控制,可實現自動起停、加藥及沖洗,自動監測各種運行參數,并可實現運行參數的儲存及打印 廣泛適用于： 半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路 LCD、EL、PDP、TFT、玻殼、顯像管 超純材料和超純化學試劑 光導纖維、光盤。

    一、應用范圍概述：電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗 電子管生產　電子管陰極涂敷碳酸鹽配液 顯像管和陰極射線管生產配料用純水黑白顯像管熒光屏生產　玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水  液晶顯示器的生產　屏面需用純水清洗和用純水配液 晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制集成電路生產中高純水清洗硅片 硅片純水 光伏硅材料DI超純水設備-硅圓生長/切片清洗高純水 硅材料單晶硅DI

    二、典型工藝流程

       預處理系統－反滲透系統－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－精密過濾器－用水對象 （≥18MΩ.CM）(傳統工藝)

        預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）

       預處理－一級反滲透－加藥機（PH調節）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥17MΩ.CM） (新工藝)    

       預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(新工藝)

       處理系統－反滲透系統－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線殺菌器－精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統工藝)

    三、達到標準：

       純化水標準，注射水標準 顯像管、液晶顯示器用純水水質（經驗數據）、集成電路用純水水質、國家電子級純水標準、美國SEMI標準

    四、設備特點

       為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用*和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。