高溫抽取NH3激光氨逃逸監測系統
一、產品概述（煙氣氨逃逸監測分析儀系統（高溫抽取激光)）
脫硝氨逃逸一體化在線監測系統（TK-1100型）是由我公司榮譽出品，本系統包括預處理系統、氣體分析儀和數據處理與顯示三大部分。本系統取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統基本原理是基于紫外差分吸收光譜（DOAS）技術及可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術；紫外差分吸收光譜技術原理為，同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收，不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用，通過對連續光譜做算法分析，可同時測量多種氣體，有效避免各組分相互干擾；激光光譜氣體分析技術已經廣泛應用到對于靈敏度、響應時間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監測領域。
本公司生產的脫硝氨逃逸一體化在線監測系統（TK-1100型）耐用且易于安裝，特別適用于眾多環保及工業過程氣體排放監測，包括燃煤發電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發電站、水泥廠和化工廠等。
二、氨逃逸形成及危害
2.1 氨逃逸的形成
在大規模燃燒礦物燃料的領域，例如燃煤發電廠，都安裝了前燃（pre-combustion)或后燃（post combustion）NOX 控制技術的脫硝裝置，后燃NOX 控制技術可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法(SNCR)，但是無論應用哪種方法，基本原理都是一樣的，即都是通過往反應器內注入氨與氮氧化物發生反應，產生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式，也可以先通過尿素分解釋放得到NH3 再注入的形式，無論何種形式，控制好氨的注入總量和氨在反應區的空間分布便可以da化的降低NOX 排放。
氨注入的過少，就會降低還原轉化效率，氨注入的過量，不但不能減少NOX 排放，反而因為過量的氨導致NH3 逃逸出反應區，逃逸的NH3 會與工藝流程中產生的硫酸鹽發生反應生成硫酸銨鹽，且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀，例如沉淀在空氣預熱器扇面上，會造成嚴重的設備腐蝕，并因此帶來昂貴的維護費用。在反應區注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時也會出現氨逃逸現象，高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉化效率降低是一種非常糟糕的現象和很嚴重的問題。
2.2氨逃逸的危害
（1）逃逸掉的氨氣造成資金的浪費，環境污染；
（2）氨逃逸將腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活（即失效）和堵塞，大大縮短催化劑壽命；
（3）逃逸的氨氣，會與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽（具有腐蝕性和粘結性）使位于脫銷下游的空預器蓄熱原件堵塞與腐蝕；
（4）過量的逃逸氨會被飛灰吸收，導致加氣塊（灰磚）無法銷售；
三、規格與技術參數
指標 | 測量范圍 | 0-10.0ppm，0-50.0ppm 可根據用戶需求設定 |
響應時間 | <20s |
線性誤差 | <1%F.S |
零點漂移 | 可忽略 |
重復性 | 1%F.S |
標定 | 出廠時已標定，無需定期標定 |
輸入和輸出信號 | 模擬量輸出 | 4-20mA電流環，750ΩMax，隔離 |
報警輸出 | 濃度超限、溫度異常、系統故障均報警 |
繼電器輸出 | 2路（可擴展），觸點負載24V，2A |
通訊接口 | RS485，雙端隔離 |
工作條件 | 環境溫度 | (-20)～50℃ |
保護等級 | IP54 |
工作電壓 | 200V-240VAC，50Hz |
電源功耗 | ≤3000W |
預熱時間 | 1小時 |
伴熱溫度 | 180℃～240℃ |
| 采樣流量 | 2～20L/min（可根據用戶需求定制） |
尺寸 | 機柜 | 1000×1200×600mm（默認尺寸） |
四、氨逃逸系統流路簡介
本系統的流路主要由測量流路、反吹流路、標定流路及渦旋制冷流路組成，具體流路示意圖如下：
系統進入測量狀態后，電動執行機構帶動兩通球閥切換到采樣氣路，在引流泵的作用下，被測氣體經由探頭桿、，兩通球閥、二級過濾器進入NH3模塊，NH3模塊利用吸收技術（TDLAS）對氣體進行分析，得到NH3的濃度（高溫熱濕法），后排空。
系統定時會進入校準狀態進行自動調零，此時兩通球閥切換到校準氣路，校準電磁閥打開，在引流泵的作用下，環境空氣經過濾器、校準電磁閥后進入氣體室，對氣體室中殘留的被測氣體進行吹掃，吹掃干凈后，對NH3進行一次調零；系統定時會進入反吹狀態對采樣探頭進行反吹，此時兩通球閥切換到反吹氣路，反吹電磁閥打開，系統自動控制反吹電磁閥開或關，實現對探頭過濾器的反吹。
五、氨逃逸系統取樣及機箱
取樣探頭
裝置是具有電加熱伴熱功能，能自行加熱并實施溫控的采樣裝置。該裝置適用于高溫、高粉塵濃度的SCR/SNCR裝置入口和出口樣氣的連續采集。示意圖如下：
結構：裝置由取樣管、探頭法蘭、取樣法蘭管、濾芯、反吹氣罐、反吹電磁閥、探頭保溫罩等組成。
高溫抽取NH3激光氨逃逸監測系統
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