工業發酵有機廢氣處理設備在用多孔性固體物質處理流體混合物時，流體中的某一組分或某些組分可被吸表面并濃集其上，此現象稱為吸附。吸附處理廢氣時，吸附的對象是氣態污染物，氣固吸附。被吸附的氣體組分稱為吸附質，多孔固體物質稱為吸附劑。

固體表面吸附了吸附質后，一部被吸附的吸附質可從吸附劑表面脫離，此現附。而當吸附進行一段時間后，由于表面吸附質的濃集，使其吸附能力明顯下降而吸附凈化的要求，此時需要采用一定的措施使吸附劑上已吸附的吸附質脫附，以協的吸附能力，這個過程稱為吸附劑的再生。因此在實際吸附工程中，正是利用吸附一再生一再吸附的循環過程，達到除去廢氣中污染物質并回收廢氣中有用組分。

工業發酵有機廢氣處理設備

特點：

① 不需要高成本的化學藥劑，運行穩定，耐腐蝕，耐負荷沖擊能力大。

② 針對特定有害氣體成份馴化適當的微生物，提高單位容積的負荷率。

③ 填料采用有機無機混合填料，比表面積大，孔隙率高，并可為微生物

提供營養，可支撐大量不同種群微生物群。

④ 填料活性介質的損失小、可減少能耗，降低運行費用。

⑤ 采用強化自然生物降解污染物，無二次污染物產生。

⑥ VOC去除率高，對H2S的去除率可達99%。

⑦ PLC控制系統自動運行，無需人員管理。

光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物*氧化成無毒無害的產物，而傳統的高溫焚燒技術則需要在*的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規的催化、氧化方法亦需要高溫。

從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發產生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優點，具體研究中可根據需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發生光腐蝕，使用壽命有限。