二級反滲透設備短期保存適用于停運15d以下的系統，可采用每1～3d低壓沖洗的方法來保護反滲透設備。實踐發現，水溫20℃以上時，反滲透設備中的水存放3d就會發臭變質，有大量細菌繁殖。因此，建議水溫高于20℃時，每2d或1d低壓沖洗一次，水溫低于20℃時，可以每3d低壓沖洗一次，每次沖洗完后需關閉凈水設備反滲透裝置上所有進出口閥門。

*停用保護適用于停運15d以上的系統，這時必須用保護液（殺菌劑）充入凈水設備反滲透裝置進行保護。常用殺菌劑配方（復合膜）為甲醛10（質量分數）、異噻唑啉酮20mg/L、亞硫酸氫鈉1（質量分數）。

二級反滲透設備

R/O裝置為了溶解固體形物的濃縮排放和淡水的利用，為防止濃水端特別是RO裝置后一根膜組件濃水側出現CaCO3,MgCO3,MgSO4,CaSO4,BaSO4,SrSO4,SiSO4的濃度積大于其平衡溶解度常數而結晶析出，損壞膜原件的應有特性，在進入反滲透膜組件之前，應使用離子軟化裝置或投放適量的阻垢劑阻止碳酸鹽，SiO2，硫酸鹽的晶體析出.

采用精密過濾器對進水中殘留的懸浮物、非曲直粒物及膠體等物質去除，使RO系統等后續設備運行更安全、更可靠。濾芯為5um熔噴濾芯，目的是把上級過濾單元漏掉的大于5um的雜質除去。防止其進入損壞膜的表面，從而損壞膜的脫鹽性能。

是用足夠的壓力使溶液中的溶劑（一般是水）通過反滲透膜（或稱半透膜）而分離出來，因為這個過程和自然滲透的方向相反，因此稱為反滲透。反滲透法能適應各類含鹽量的原水，尤其是在高含鹽量的水處理工程中，能獲得很好的技術經濟效益。反滲透法的脫鹽率提高，回收率高，運行穩定，占地面積小，操作簡便，反滲透設備在除鹽的同時，也將大部分細菌、膠體及大分子量的有機物去除。

主要用途

⒈制取電子工業生產如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬盤、集成電路?芯片、單晶硅半導體等工藝所需的純水、高純水；

⒉制取熱力、火力發電鍋爐，廠礦企業中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水；

⒊制取醫藥工業所需的科研大輸液、注射劑、藥劑、生化制品純水、科研無菌水及人工腎透析用純水等；

⒋制取飲料（含酒類）行業的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水，酒類釀造水和勾兌用純水；

⒌海水、苦咸水制取生活用水及飲用水；