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湖南頂立科技有限公司
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立式化學氣相沉積爐（沉積炭）用于以碳氫氣體（如C3H8、CH4等）為碳源的材料表面或基體的CVD/CVI處理
電阻爐可采用多溫區獨立控溫，溫度均勻性好；
采用智能壓力調控，壓力波動小；
全封閉沉積室，密封效果好，抗污染能力強；
多通道工藝氣路，流程均勻，無沉積死角，沉積效果好；
多級高效尾氣處理系統，環境友好，能高效收集焦油及副產物，易清理；
可選配外循環快冷系統，降溫時間短，生產效率高；
| 參數/型號 | VCVD-0305-C | VCVD-0608-C | VCVD-0812-C | VCVD-1120-C | VCVD-1320-C | VCVD-1520-C |
| 工作區尺寸D×H（mm） | Φ300×500 | Φ600×800 | Φ800×1200 | Φ1100×2000 | Φ1300×2000 | Φ1500×2000 |
| 溫度（℃） | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 |
| 溫度均勻性（℃） | ±5/±10 | ±7.5/±10 | ±7.5/±15 | ±10/±15 | ±10/±15 | ±10/±20 |
| 極限真空度（Pa） | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 |
| 壓升率（Pa/h） | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 |
| 加熱方式 | 電阻/感應 | 電阻/感應 | 電阻/感應 | 電阻/感應 | 電阻/感應 | 電阻/感應 |
| 參數/型號 | VCVD-1822-C | VCVD-2032-C | VCVD-2632-C | VCVD-3338-C | VCVD-3344-C |
| 工作區尺寸D×H（mm） | Φ1800×2200 | Φ2000×3200 | Φ2600×3200 | Φ3300×3800 | Φ3300×44000 |
| 溫度（℃） | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 |
| 溫度均勻性（℃） | ±15 | ±15 | ±15 | ±20 | ±20 |
| 極限真空度（Pa） | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 | 1-100 |
| 壓升率（Pa/h） | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 |
| 加熱方式 | 電阻 | 電阻 | 電阻 | 電阻 | 電阻 |
以上參數可根據工藝要求進行調整，不作為驗收依據，具體以技術方案和協議為準。
結構形式：臥式-單開門/門；立式-上出料/下出料
爐門鎖緊方式：手動/自動
爐殼材質：全碳鋼/內層不銹鋼/全不銹鋼
保溫材質：碳氈/石墨氈/碳纖維固化氈/陶瓷纖維氈
加熱器、馬弗：石墨/CFC/金屬
熱電偶：K/N/C/S分度號
電源：KGPS/IGBT(僅適用于中頻加熱)
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