集成電路作為集成電路產(chǎn)品的核心部件，其質(zhì)量的好壞直接決定到集成電路整機(jī)產(chǎn)品的性能和可靠性。在集成電路的制備過程中，表面附著的顆粒、有機(jī)物、金屬等污染物嚴(yán)重影響器件的性能。隨著集成電路板中單元圖案的日益小型化和集成度的提高，對器件性能、可靠性、產(chǎn)量和使用壽命的要求也越來越高。因此，在集成電路制造過程中的許多工藝，如硅氧化、光刻、外延、擴(kuò)散和鉛蒸發(fā)等之前，為了獲得符合清潔度要求的硅片，要用物理或化學(xué)方法去除硅片表面的污染物及其自身的氧化物，但這也產(chǎn)生了大量的廢水。

　　集成電路板清洗過程中排出的廢水含有纖維物質(zhì)、鉻、鎳、鋅、酸堿等污染成分，如不進(jìn)行有效處理或處理不當(dāng)，將對環(huán)境造成嚴(yán)重污染。天然水體受酸、堿、重金屬污染后，水體的緩沖作用被破壞，使水質(zhì)惡化，抑制或阻止微生物活動，降低水的自凈能力，還會對農(nóng)作物造成危害，重金屬離子對健康有很大的危害。而且水中的重金屬離子不會被微生物降解，它們可以在生物體內(nèi)吸附、積累和富集，對人類、魚類、浮游生物都有非常大的危害，嚴(yán)重時可造成作物減產(chǎn)或牲畜死亡。

　　隨著我國“節(jié)能減排"政策的實施，在集成電路行業(yè)用水大戶的環(huán)評批復(fù)中明確提出，除要求廢水達(dá)標(biāo)排放外，還明確要求廢水必須達(dá)到一定的回用率，實現(xiàn)循環(huán)經(jīng)濟(jì)。在現(xiàn)有技術(shù)中，生產(chǎn)企業(yè)主要是將上述工藝混合在同一個集成電路清洗廢水回用設(shè)備中進(jìn)行處理，集成電路清洗廢水的成分復(fù)雜，現(xiàn)有設(shè)備對這種廢水的處理需要使用較多的藥劑進(jìn)行反應(yīng)，浪費了較多的藥劑，同時這種廢水設(shè)備的結(jié)構(gòu)復(fù)雜，不利于操作人員進(jìn)行維護(hù)。

　　萊特萊德的集成電路清洗廢水回用系統(tǒng)工藝合理，運行持久穩(wěn)定，經(jīng)濟(jì)效益明顯，環(huán)境風(fēng)險性能可控，整體布局高度集成，美觀大方。該系統(tǒng)采用Neterfo極限分離和MVR蒸發(fā)的組合，加上高效的軟化和脫硬系統(tǒng)，降低了膜系統(tǒng)結(jié)垢和污染的風(fēng)險，保證了系統(tǒng)的穩(wěn)定運行。Neterfo極限分離系統(tǒng)簡單的模塊化設(shè)計使其運行更加靈活，能夠?qū)崿F(xiàn)集成電路廢水的回用處理。集成電路清洗廢水回用系統(tǒng)的不斷創(chuàng)新使我國對集成電路的需求不斷增加，集成電路廢水的有效回用符合我國目前的節(jié)水環(huán)保理念。

　　集成電路行業(yè)是一個重度污染的行業(yè)，有很多設(shè)計生產(chǎn)環(huán)節(jié)，各生產(chǎn)環(huán)節(jié)產(chǎn)生的廢水類型差異比較大，需要進(jìn)行廢水分流和單獨處理。對于一些污染較輕的廢水，可以進(jìn)行綜合處理。集成電路工業(yè)和其他行業(yè)產(chǎn)生的含有重金屬離子的廢水量越來越大，成分也越來越復(fù)雜。在選擇其處理方法時，應(yīng)考慮水質(zhì)、水量、處理效果和經(jīng)濟(jì)投入等因素，綜合運用各種組合工藝和新技術(shù)，揚長避短，其中，集成電路清洗廢水回用系統(tǒng)“C位"出道。