熟悉半導體領域的人都知道晶圓，但是對于不太關心科技的人來說那就是不曾聽聞了。晶圓，簡單來說就是半導體電路的核心組件，是一種承載物，制成半導體積體電路的原材料。

　　作為半導體電路的重要組成部分，硅晶圓的生產至關重要，其清洗用水多為高質量的超純水，超純水質量也影響著硅晶圓產出的質量，那么什么樣的超純水設備才能產出高質量的超純水呢?

　　采用預處理+反滲透+EDI+拋光混床組合形式的超純水設備方可制備出高質量的超純水。該設備具有高效低能、運行成本低，水資源利用率高、體積較小、維修量小，運行的時間長等優點。設備應用的EDI模塊水處理過程中不需要添加任何化學品，不僅減少了化學品運輸問題，同時降低了系統運行費用。本模塊不會有酸堿廢液產生，所以不需要酸堿中和池，一般情況下，EDI水處理系統產出的濃水可以回收再利用。

　　萊特萊德整套設備主要是消耗電量來維持系統運行，其耗電量比傳統混床工藝低，無需樹脂更換，自動化性能強，無需人工操作。設備能夠連續穩定的制備品質優良的超純水，采用的設計結構相對靠緊，所以其占地非常小，可以為企業節省很多空間，在符合硅晶圓生產用水水質標準的同時可以使水資源的利用率達到95%~99%，有效提升了水資源利用率。

　　隨著科技的不斷進步，半導體行業不斷的發展，我國對于該行業的政策支持，使得硅晶圓的市場需求也在不斷增加，超純水的需求也在悄然的增加。