由于晶圓生產(chǎn)耗水量巨大,所以晶圓制造較為集中的城市必定遍布長江、太湖和運(yùn)河水系。一個(gè)生產(chǎn)40K晶圓的大型工廠,每天投產(chǎn)用水高達(dá)1.82萬噸,接近一個(gè)6萬人口的小型城鎮(zhèn)一天用水量。

在晶圓生產(chǎn)過程中所需的零配件上會(huì)殘存細(xì)微分子,需要成噸的超純水反復(fù)清洗,整個(gè)清洗循環(huán)過程約占芯片制造整體工序步驟的30%以上,是芯片制造工藝步驟占比最大的工序。如果清潔參數(shù)無法達(dá)標(biāo),遺留的超微細(xì)顆粒污染物、金屬殘留、有機(jī)物、光阻掩膜等將成為污染源,邁入高階制程后,易導(dǎo)致后續(xù)工藝失敗、電學(xué)失效,最終造成芯片報(bào)廢,直接拉低整條生產(chǎn)線的良品率,給廠商造成巨額的經(jīng)濟(jì)損失。

超純水純度影響產(chǎn)品良品率

對(duì)于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言,超純水的純度是確保高效生產(chǎn)的基石之一,工藝的穩(wěn)定性直接影響產(chǎn)品的質(zhì)量和生產(chǎn)效率,與產(chǎn)品良品率及經(jīng)濟(jì)效益密切關(guān)聯(lián),更是下游客戶選擇合作方的關(guān)鍵指標(biāo)。

高度提純的超純水幾乎不導(dǎo)電,不會(huì)影響電子產(chǎn)品的性能,同時(shí)水中不含金屬離子,也可避免對(duì)復(fù)雜芯片表面造成劃痕或者不可逆的影響。假若因?yàn)槌兯兌炔贿_(dá)標(biāo),在晶圓制造環(huán)節(jié)中有污染物未能清除,輕則影響晶圓良品率,重則導(dǎo)致成批晶圓報(bào)廢。

萊特萊德專注于超純水生產(chǎn)工藝多年，超純水設(shè)備憑借顯著優(yōu)勢在芯片生產(chǎn)中應(yīng)用廣泛。超純水設(shè)備結(jié)合反滲透膜分離技術(shù)和EDI技術(shù)制備超純水。與傳統(tǒng)工藝相比，該工藝運(yùn)行成本低且運(yùn)行可靠，整體化程度高、易于擴(kuò)展、增加膜數(shù)量即可增加處理量。自動(dòng)化程度高，遇故障立即自停，具有自動(dòng)保護(hù)功能。膜組件為復(fù)合膜卷制而成，具有較高的溶質(zhì)分離率和透過率。能耗低、水利用率高、運(yùn)行成本低。

萊特萊德超純水設(shè)備采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、EDI技術(shù)和后處理方法，幾乎去除水中的導(dǎo)電介質(zhì)，去除非游離膠體物質(zhì)，水中的氣體和有機(jī)物含量很低。萊特萊德超純水設(shè)備具有出水連續(xù)、無酸堿再生、無人值守、安裝簡單、操作方便等優(yōu)點(diǎn)。出水水質(zhì)符合半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)。