光氧廢氣催化處理器是在光化學氧化技術的基礎上發展起來的。光化學氧化技術是在可見光或紫外光作用下使污染物氧化降解的反應過程。但由于反應條件所限，光化學氧化降解往往不夠全部，易產生多種芳香族中間體，成為光化學氧化需要克服的問題，而通過和光催化氧化劑的結合，可以提高光化學氧的速率。
光氧廢氣催化處理器采用光解方式處理廢氣，沒有高溫、高壓危險，使用穩定，操作簡單，便于各種行業的使用管理，特別適合、穩定要求高的場合使用。采用紫外線光燈，利用特定波長的紫外線對物進行轉化，不會出現像活性炭吸附達到飽和而出現效果下降的情況，廢氣轉化速率高、處理效果長期穩定。光解處理區采用光解轉化廢氣，反應區內只安裝燈具，只是進出兩端設置隔離層，氣流平穩、緩慢，阻力小，選用系統風機的壓力要求低，降低配套設施運行能耗和費用。
光氧廢氣催化處理器采用“光照"的方式處理廢氣，在光解反應區內將物質直接轉化，不另外增加中間介質或過程，不產生二次污染，也不需要另外加入其他能耗，只需要亮燈光照即可，燈具的使用壽命長，正常使用可達到5000-8000小時，所以本設備運行費用低，不產生二次污染，屬于清潔、低能耗的高技術環保系統。
光氧廢氣催化處理器是利用特別制作的光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、3-K胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構，使或沒高分子惡臭化合物分子鏈，在紫外線光束照射下，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
惡臭氣體利用排風設備輸入到光氧催化設備后，凈化設備運用C波光束及臭氧對惡臭氣體進行協同分解氧化反應，使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。利用UV光束裂解惡臭氣體中的分子鍵，破壞的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，全部達到脫臭及殺滅的目的。
利用高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧)，臭氧對物具有的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有的清理效果。
光氧廢氣催化處理器之所以被廣泛應用，是因為經過的發展和在科技的帶動下，越發滿足人們的需求，所謂光催化反應，就是在光的作用下進行的化學反應。光化學反應需要分子吸收特定波長的電磁輻射，受激產生分子激發態，然后會發生化學反應生成新的物質，或者變成引發熱反應的中間化學產物。光催化氧化技術利用光激發氧化將O2、H2O2等氧化劑與光輻射相結合。所用光主要為紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工藝，可以用于處理污水中CHCl3、CCl4、多氯聯苯等難降解物質。另外，在有紫外光的體系中，紫外光與鐵離子之間存在著協同效應，使H2O2分解產生羥基自由基的速率加快，推動物的氧化去除。
光氧廢氣催化處理器主要適合一些、氣量大、分子結構穩定性強的氣體，利用人工合成的特別波段紫外線進行廢氣凈化和處理，紫外線本身是具有凈化除臭功能的，在不同波段的時候，對于空氣中的氧氣和廢氣分子來說可以達到比較理想的分解裂化的功能。光觸媒這種技術是可以在常溫下進行廢氣處理的，不需要特別的催化材料和催化工藝，相對來說是可以節省相應的能源的，對于國內的中小型企業來說是比較好的選擇。
