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SKCC-GZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭（公、自旋轉靶頭）

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更新時間：2020-12-18 11:42:56瀏覽次數：279次

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沈陽科晶自動化設備有限公司

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產品簡介

SKCC-GZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭（公、自旋轉靶頭）

詳細介紹

產品簡介：SKCC-GZB-X高真空磁控濺射永磁靶頭（公、自旋轉靶頭）適用靶材種類較廣，如金屬/絕緣靶或磁性/非磁性靶材。配裝有環形永磁體在靶頭上，以保證濺射鍍膜的效率和均勻性。可與DC或RF電源配合使用。

產品型號	SKCC-GZB-X（高真空磁控濺射公、自旋轉靶頭）
產品規格	1寸，SKCC-GZB-1 2寸，SKCC-GZB-2 3寸，SKCC-GZB-3 4寸，SKCC-GZB-4 注：其它尺寸可以訂制
主要特點	1、轉靶帶擋板（可實現每次露出一個工作的靶，避免交叉污染）； 2、采用電磁場的有元計算法來設計永磁體，以得到較高的磁場強度和均勻分布； 3、轉靶轉速5~60轉/分可調； 4、標準的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配； 5、安裝采用標準真空法蘭（CF金屬密封或Dg膠圈密封可選）； 6、靶材更換較為簡單，無需調整濺射頭的高度。
配套電源	1、直流DC；2、射頻RF