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GSL-ZDDZS-500電子束蒸鍍

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更新時間：2020-12-18 12:17:57瀏覽次數：573次

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沈陽科晶自動化設備有限公司

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產品簡介

GSL-ZDDZS-500電子束蒸鍍

詳細介紹

產品簡介：用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應用于大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作及清理方便的優點,還具有蒸鍍速率快，電子束定位準確能量密度高，可以避免坩堝材料的污染等特點。

產品型號	GSL-ZDDZS-500電子束蒸鍍
安裝條件	本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有自循環冷卻水機，水溫小于25℃，水壓0.25-0.4Mpa，流量高于12 l/min（加注純凈水或者去離子水）； 2、電：AC380V 50Hz，功率大于10KW，波動范圍：小于±6％，必須有良好接地（對地電阻小于2Ω）； 3、氣：設備腔室內需充注氮/氬氣（純度99.99%以上），需自備氮/氬氣氣瓶（自帶Ø10mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、場地面積：設備尺寸2000mm×2000mm，承重1000kg以上 5、通風裝置：需要（外排廢氣管道）；
主要特點	1、由于電子束定位準確能量很高，可蒸發難熔金屬或化合物，蒸發速率快； 2、體積小，操作簡便可以非常容易的放置材料和清理； 3、蒸發材料放置在水冷銅坩堝中，可避免坩堝材料的污染，制備高純薄膜； 4、由于蒸發物面積小，因而熱輻射損失小，熱效率高；
技術參數	1、極限真空度：≤6.67x10-5 Pa (經烘烤除氣后)； 2、系統真空檢漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S； 3、系統短時間暴露大氣并充干燥氮氣后，再開始抽氣，45分鐘可達到6.6x10-4 Pa；
基片參數	1、基片尺寸：可放置φ4″基片（帶手動擋板）； 2、基片加溫度 800℃±1℃，由熱電偶閉環反饋控制； 3、基片可連續回轉，轉速5～60轉/分； 4、基片與蒸發源之間距離300～350mm可調；
電子束蒸發源參數	1、E型電子槍，陽極電壓6KV、8KV； 2、電子槍坩堝：水冷銅坩堝，四穴設計，每個熔煉11ml ； 3、電子束功率0-6KW可調；
真空腔體	1、U型真空室尺寸Ф500X600mm，選用優質不銹鋼材料制造，氬弧焊接，表面進行特殊工藝拋光處理，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封； 2、真空腔體前開門鉸鏈結構，方便取、放樣品； 3、前開門設有兩個觀察窗接口，可以觀察電子槍和基片； 4、設備預留膜厚儀接口，可選配膜厚儀； 5、高真空分子泵機組，閘板閥隔斷（也可使用高真空擋板閥）；
產品規格	整機尺寸：1800mm×1200mm×2000mm；
標準配件	1	電源控制系統	1套
	2	真空獲得機組	1套
	3	真空測量	1套
	4	電子槍	1套