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上海斯邁歐分析儀器有限公司
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紫外分光光度計UV針對硅晶片表面光阻薄膜厚度測量
2022-2-12 閱讀(293)
很多方法都可以用來測量薄膜的厚度。這些方法中，島津紫外可見分光光度計提供了簡便的、對薄膜厚度不造成損害的測量方式。對硅片上兩個不同厚度的光阻層(0.5 µm, 3.0 µm)進行測量。結果發現，薄膜越薄，波的周期越長，反之亦然。
允許對所有種類的薄膜進行簡易的并且不造成薄膜厚度損害的測量。從薄膜的前后表面反射出的光相互交叉形成一個干涉圖。在一定波長范圍內，薄膜的厚度可通過光譜上波的數量計算得到（在物質的折射率已知的情況下）。
分光光度計開始研發的目的是為了對液體樣品進行吸光度檢測。近些年，由于快速增加的固體反射率和吸光度測定要求，高精度高能量的分光光度計在市場上大受歡迎，包括對半導體、膠片、玻璃和其他吸附性固體材料。同時，生命科學領域中也需要高通量的分析儀對超痕量樣品進行高速及高敏感度分析。藥品及制藥工業中則需要分析儀具備穩定性，可追蹤性以及符合GXP和FDA 21 CFR Part11的合規性檢測功能。因為，分光光度計軟件必定支持這些功能。島津研發了適用于此要求的硬件及軟件。
