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UV清洗燈SUV40GS-64,SUV40GS-65,SUV40GS-50,SU

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更新時(shí)間:2022-01-07 14:55:53瀏覽次數(shù):100次

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SUV型40W標(biāo)準(zhǔn)型低壓水銀燈水處理表面改質(zhì)燈:主要型號(hào):SUV40GS-64,SUV40GS-65,SUV40GS-50,SUV40GS-4技術(shù)參數(shù):冷陰極電子管

SUV型40W標(biāo)準(zhǔn)型低壓水銀燈水處理表面改質(zhì)燈:

主要型號(hào): SUV40GS-64, SUV40GS-65, SUV40GS-50, SUV40GS-4

技術(shù)參數(shù):冷陰極電子管,空冷,40W,0.8A,管徑18MM,口金徑22MM,全長(zhǎng)176MM,發(fā)光長(zhǎng)112MM,壽命:4000H

電源UVB-40:AC,100V,60HZ


.紫外線表面清洗主要原理
紫外線表面清洗是近年來(lái)新興的清洗方法。紫外線表面清洗法不同于原有清洗法,沒有廢水,廢氣,廢物產(chǎn)生。是高能環(huán)保型清洗殺菌方法。廣泛運(yùn)用于LCD,PCB,點(diǎn)子,印刷,塑膠,玻璃,涂裝等領(lǐng)域。
紫外線清洗是是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除附著在材料表面的有機(jī)物質(zhì)。經(jīng)過(guò)光清洗后的材料表面可以達(dá)到原子級(jí)清潔度。
其主要原理為紫外線燈發(fā)出的185nm波長(zhǎng)和254nm波長(zhǎng)具有很高的能量,高于大多數(shù)有機(jī)物的結(jié)合能量。由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?duì)185nm波長(zhǎng)的紫外線具有較強(qiáng)的吸收能力,并且可以在吸收185nm波長(zhǎng)后分解成離子,流離態(tài)原子,受激分子和中子等,這就是光敏作用。空氣中的氧分子在吸收了185nm波長(zhǎng)的紫外光后,會(huì)產(chǎn)生臭氧和氧氣,臭氧對(duì)254nm波長(zhǎng)具有很強(qiáng)的吸收性,臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有的氧化性,可以將碳?xì)浠湘I切斷,生成水和二氧化碳等易揮發(fā)氣體,從被照射物表面飄逸出,*清除物體表面的污染物。這就是紫外線清洗的原理。


二.SEN紫外線UV光表面處理技術(shù):利用光能進(jìn)行的表面改質(zhì)和干式清洗,具有四大優(yōu)點(diǎn):
1.可在大氣中處理,使用方便
2.可根據(jù)被照射物形狀設(shè)計(jì)燈管形狀及設(shè)備
3.不同于其他處理方式(如酸洗處理后的表面會(huì)留有很多腐蝕孔),對(duì)物體表面沒有損傷,保持平滑性
4.SEN紫外線UV光清洗優(yōu)點(diǎn):(1)照度高,照射時(shí)間短.(2)低運(yùn)行成本:燈管壽命長(zhǎng),光衰低.(壽命5000~7000H)


紫外線UV光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍:

1.各種材料(ITO玻璃,光學(xué)玻璃,鉻板,掩膜版,拋光石英晶體,硅)晶片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理;

2.清除石臘,松香,油脂,人體體油以及殘余的光刻膠/聚酰亞胺和環(huán)氧樹脂

3.高精度PCB焊接前的清洗和去除殘余的焊劑以及敷銅箔層壓板的表面清潔和氧化層生成;

4.超高真空密封技術(shù)和熱壓焊接前的表面清潔處理以及各種微型元件的清洗

5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生產(chǎn)中,在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過(guò)光清洗,可以極大的提高基體表面潤(rùn)濕性,增強(qiáng)基體表面的粘合力;

6。印制電路板生產(chǎn)中,對(duì)銅底板,印刷底板進(jìn)行光清洗和改質(zhì),在導(dǎo)線焊接前進(jìn)行光清洗,可以提高熔焊的接觸面積,大大增加連接強(qiáng)度。特別是高精度印制電路板,當(dāng)線距達(dá)到亞微米級(jí)時(shí),光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒,可以大大提高印制電路板的質(zhì)量。

7。大規(guī)模集成電路的密度越來(lái)越高,晶格的微細(xì)化越來(lái)越密,要求表面的潔凈度越來(lái)越高,光清洗可以有效地實(shí)現(xiàn)表面的原子清潔度,而且對(duì)芯片表面不會(huì)造成損傷。

8。在半導(dǎo)體生產(chǎn)中,硅晶片涂保護(hù)膜、鋁蒸發(fā)膜前進(jìn)行光清洗,可以提高粘合力,防止針孔、裂縫的發(fā)生

9。在光盤的生產(chǎn)中,沉積各種膜前作光清洗準(zhǔn)備,可以提高光盤的質(zhì)量。

10。磁頭固定面的粘合,磁頭涂敷,以及提高金屬絲的連接強(qiáng)度,光清洗后效果更好。

11。石英晶體振蕩器生產(chǎn)中,除去晶體檢測(cè)后涂層上的墨跡,晶體在銀蒸發(fā)沉積前,進(jìn)行光清洗可以提高鍍膜質(zhì)量和產(chǎn)品性能。

12。在IC卡表面插裝ROM前,經(jīng)過(guò)光清洗可提高產(chǎn)品質(zhì)量。

13。彩色濾光片生產(chǎn)中,光清洗后能*洗凈表面的有機(jī)污染物。

14。敷銅箔層壓板生產(chǎn)中,經(jīng)過(guò)光照改質(zhì),不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護(hù)氧化層,產(chǎn)品質(zhì)量顯著提高

15。光學(xué)玻璃經(jīng)過(guò)紫外光清洗后,鍍膜質(zhì)量更好。

16。樹脂透鏡光照后,能加強(qiáng)與防反射板的粘貼性。


典型應(yīng)用包括:

·表面的原子級(jí)清洗

·聚合物粘接

·去除有機(jī)分子

·釋放捕獲的無(wú)機(jī)分子

·微流控制作

·微米/納米構(gòu)型

·紫外光固化

·表面化學(xué)改性

·表面殺菌

·表面氧化

·金屬粘結(jié)準(zhǔn)備……

.光酸化水處理,促進(jìn)酸化水處理

.光重合反應(yīng)

SEN UV光清洗, 短短幾十秒, 表面超潔凈 !

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