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天津維爾佰德科技有限公司
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PALAS納米粒子測量儀通用掃描遷移率粒度儀，適合各種應用（8–1200nm
粒徑分布從8 nm到1.2 µm
? 連續和快速掃描的測量原理
? 高分辨率，Z多128個大小類/衰減
? 適用于高達108顆粒數/立方厘米的濃度
? 可以連接其他制造商的DMA和納米粒子計數器
? 圖形顯示測量值
? 直觀操作，使用7英寸觸摸屏和GUI
PALAS納米粒子測量儀
PALAS納米粒子測量儀通用掃描遷移率粒度儀，適合各種應用（8–1200nm）
| • 粒徑分布從8 nm到1.2 µm • 連續和快速掃描的測量原理 • 高分辨率，Z多128個大小類/衰減 • 適用于高達108顆粒數/立方厘米的濃度 • 可以連接其他制造商的DMA和納米粒子計數器 • 圖形顯示測量值 • 直觀操作，使用7英寸觸摸屏和GUI • 集成數據記錄儀 • 支持多種接口和遠程訪問 • 低維護 • 功能可靠 • 減少您的運營費用 *請聯XiPalas®了解更多信息。 |
說明
規格參數
優點
應用領域
圖1：U-SMPS 2050/2100/2200
Palas®通用掃描遷移率粒度儀（U-SMPS）有兩個版本。長分類柱（2050/2100型）能夠可靠地確定8至1,200 nm的粒徑分布。 Palas®U-SMPS系統包括一個分類器[在ISO 15900中定義為差分電遷移率分類器（DMA），也稱為差分遷移率分析器（DEMC）]，根據氣溶膠顆粒的電遷移率選擇并傳遞給出口。
然后通過冷凝顆粒計數器（例如Palas®UF-CPC）對這些顆粒進行計數。三種可用的UF-CPC模型可實現各種濃度范圍內的Z佳單顆粒計數。 Wiedensohler教授（德國IfT萊比錫）開發了Palas®的算法，用于對測量數據進行反演以產生U-SMPS粒度分布。
U-SMPS使用觸摸屏上的圖形用戶界面進行操作。單個粒子分布掃描可以在短短30秒內執行，或者，每十個通道Z多執行64個尺寸通道，在此期間，DEMC分類器中的電壓連續變化，從而導致每個尺寸通道的計數統計更高。集成的數據記錄器允許在設備上以線性和對數顯示測量值。隨附的評估軟件提供各種數據評估（廣泛的統計和平均）以及導出功能。
U-SMPS通常作為獨立設備運行，但也可以使用各種接口（USB，LAN，WLAN，RS-232/485）連接到計算機或網絡。 Palas®U-SMPS支持其他制造商的各類DMA、CPC和氣溶膠靜電計。
U-SMPS的準確尺寸測定和可靠性能十分重要，對于校準來說尤其如此。所有組件都通過嚴格的質量保證測試，并在內部組裝。
圖2展示U-SMPS的工作原理：
氣溶膠在進入分類器（DEMC列）之前經過調節。可選的干燥器（例如硅膠，Nafion）可以去除顆粒中的水分。使用雙極中和劑（例如Kr 85）來確保測定的氣溶膠電荷分布。為了去除大于分類機尺寸范圍的顆粒，需要在DEMC的入口處使用撞擊器。
圖2：通用掃描遷移率粒度儀（U-SMPS）的工作原理
然后，氣溶膠通過入口導入DEMC色譜柱。沿著外部電極的氣溶膠流在此與護套氣流仔細合并。重要的是，在此處應避免任何湍流，以確保層流。電極的表面在光滑度和公差方面必須具有*的質量。
鞘空氣是干燥的、無顆粒的載氣（通常是空氣），其體積大于連續在閉環中循環的氣溶膠的體積。鞘空氣與樣品空氣的體積比定義傳遞函數，從而定義尺寸分類器的分辨率。
通過施加電壓在內和外電極之間產生徑向對稱的電場。內電極在末端具有小縫隙，帶正電。通過平衡每個粒子上的電場力及其在電場中的空氣動力學阻力，帶負電的粒子被轉移到正電極。根據它們的電遷移率，一些顆粒會穿過狹縫并離開DEMC。
在工作中，電壓和電場連續變化。結果，遷移率變化的粒子離開DEMC，并由納米粒子計數器（例如縮合粒子計數器）（例如Palas®UF-CPC）連續進行測量。
在實際條件下，經過測試的軟件為組合數據（電壓、粒子數等）并獲得粒度分布提供特殊的處理功能，如圖3所示。
圖3：Palas®DNP 3000顆粒發生器產生的氣溶膠的粒徑分布
用戶界面和軟件
基于持續的客戶反饋，我們已設計良好的用戶界面和軟件，以實現直觀的操作、實時控制，并可以顯示測量數據和參數。
此外，軟件還通過集成的數據記錄器、完善的導出功能和網絡支持為數據管理提供支持。可以使用許多可用的顯示選項和測量數據評估功能。
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