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紅外干涉測量設(shè)備

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產(chǎn)品型號FSM 413

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廠商性質(zhì)代理商

所在地上海市

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聯(lián)系方式：史女士查看聯(lián)系方式

更新時間：2025-05-12 14:37:06瀏覽次數(shù)：59次

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鉑悅儀器（上海）有限公司

經(jīng)營模式：代理商

商鋪產(chǎn)品：107條

所在地區(qū)：上海上海市

聯(lián)系人：史女士（市場部）

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品描述：紅外干涉測量技術(shù), 非接觸式測量

詳細(xì)介紹

紅外干涉測量設(shè)備適用于可讓紅外線通過的材料

硅、藍(lán)寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石英、聚合物…………

襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)

平整度

厚度變化 (TTV)

溝槽深度

過孔尺寸、深度、側(cè)壁角度

粗糙度

薄膜厚度

環(huán)氧樹脂厚度

襯底翹曲度

晶圓凸點(diǎn)高度(bump height)

MEMS 薄膜測量

TSV 深度、側(cè)壁角度...

測量方式: 紅外干涉(非接觸式)

樣本尺寸: 50、75、100、200、300 mm

測量厚度: 30 — 780 μm (單探頭)

3 mm (雙探頭總厚度測量)

掃瞄方式: 半自動及全自動型號,

另2D/3D掃瞄(Mapping)可選

襯底厚度測量: TTV、平均值、小值、大值、公差...

粗糙度: 20 — 1000? (RMS)

重復(fù)性: 0.1 μm (1 sigma)單探頭*

0.8 μm (1 sigma)雙探頭*

分辨率: 10 nm

設(shè)備尺寸:

413-200: 26”(W) x 38” (D) x 56” (H)

413-300: 32”(W) x 46” (D) x 66” (H)

重量: 500 lbs

電源 : 110V/220VAC 真空: 100 mm Hg

*樣本表面光滑（一般粗糙度小于0.1μm RMS)

** 150μm厚硅片（沒圖案、雙面拋光并沒有摻雜）



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