通用CVD設備 MPCVD-50 是一種多功能管式爐式熱CVD設備，適用于各種應用，例如CNT合成、碳膜形成、納米陶瓷膜形成、氮化以及硫族化物膜形成等。

該設備具有以下特點和功能：

1. 多功能應用：MPCVD-50 可用于合成碳納米管（CNT）、在粉末樣品上沉積碳以及沉積各種CVD薄膜，如硫族化物層狀材料的氮化處理和成膜等。它的多功能性能使其適用范圍廣泛。

2. 氣體控制系統：設備配備三個質量流量氣體流量控制系統，可實現精確的氣體控制。這樣，用戶可以根據需要精準地控制反應氣體的流量和比例，確保反應的質量和可重復性。

3. 液體燃料引入系統：MPCVD-50 設備還配備了液體燃料（如乙醇）的引入系統，可應用于無法安裝碳氫化合物氣體的場所。這樣，用戶可以在不受氣體限制的情況下進行實驗和研究。

4. 高度可擴展性：設備具有高度可擴展性，可以輕松處理任何類型的處理需求。無論是在研究還是生產環境中，MPCVD-50 都能適應不同規模和應用的需求。

5. 具備標配真空排氣系統：設備標配真空排氣系統，可用作真空爐、氣氛爐等。這樣，用戶可以根據需要在不同的氣氛條件下進行反應和處理，并且具備更大的靈活性。

6. 緊湊堅固的外殼設計：MPCVD-50 設備采用緊湊堅固的外殼設計，易于安裝在桌面實驗室工作臺等上。其精心設計的結構確保設備的穩定性和可靠性。

此外，MPCVD-50 設備還配備了其他重要組件和功能，如管式爐、可編程溫度控制器、質量流量控制器、波登管真空計、旋轉泵等。這些組件和功能的整合使得設備操作簡便，效果穩定可靠。

總而言之，通用CVD設備 MPCVD-50 具備多功能的應用特性，適用于各種氣相沉積需求。其精確的氣體控制系統和液體燃料引入系統確保了精準的實驗和研究結果。設備的高度可擴展性和緊湊堅固的外殼設計使其成為實驗室和生產環境中的理想選擇。