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日本filmetrics自動測繪膜厚測量系統F50
F50自動測繪膜厚測量系統是將基于光學干涉原理的膜厚測量功能與自動高速載物臺相結合的系統。
以過去無法想象的速度測量規定點的膜厚和折射率。它支持從2英寸到450毫米的硅基板，并且可以規定任何測量點。
還有與大型玻璃基板兼容的可選產品。
主要特點
結合基于光學干涉原理的膜厚測量功能和自動高速載物臺的系統
以過去無法想象的速度測量規定點的膜厚和折射率
兼容2英寸至450毫米的硅基板，可規定任何測量點
主要應用
| 半導體 | 抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅、拋光硅片、化合物半導體襯底、?T襯底等。 |
|---|---|
| 平板 | 單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR膜、 各種光學膜等。 |
| 薄膜太陽能電池 | CdTe、CIGS、非晶硅等 |
| 砷化鋁鎵（AlGaAs）、磷化鎵（GaP）等 |
產品陣容
| 模型 | F50-UV | F50 | F50-近紅外 | F50-EXR | F50-UVX | |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 測量波長范圍 | 190-1100nm | 380-1050nm | 950-1700nm | 380-1700nm | 190-1700nm | |
| 膜厚測量范圍 | 5nm-40μm | 20nm-70μm | 100nm-250μm | 20nm-250μm | 5nm-250μm | |
| 準確性* | ± 0.2% 薄膜厚度 | ± 0.4% 薄膜厚度 | ± 0.2% 薄膜厚度 | |||
| 1納米 | 2納米 | 3納米 | 2納米 | 1納米 | ||
| 測量光斑直徑 | 兼容標準1.5mm 0.5mm、0.2mm、0.1mm（可選） | |||||
| 光源 | 氘· 鹵素 | 鹵素 | 氘· 鹵素 | |||
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