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工業廢氣凈化設備

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更新時間:2022-07-26 11:34:53瀏覽次數:778次

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產品簡介

產品簡介: 工業廢氣凈化設備利用的高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,裂解惡臭氣體如:氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,VOC類,苯、甲苯、二甲苯等的分子鏈結構,使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈,在紫外線光束照射...

詳細介紹

產品簡介:
 
工業廢氣凈化設備利用的高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,裂解惡臭氣體如:氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,VOC類,苯、甲苯、二甲苯等的分子鏈結構,使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈,在紫外線光束照射下,裂解解轉變為離子。
工業廢氣凈化設備(圖1)
性能特點:
 
在光照下,如果光子的能量大于半導體禁帶寬度,其價帶上的電子(e-)就會被激發到導帶上,同時在價帶上產生空穴(h+)。當存在合適的俘獲劑、表面缺陷或者其他因素時,電子和空穴的復合得到抑制,就會在催化劑表面發生氧化還原反應。價帶空穴是良好的氧化劑,導帶電子是良好的還原劑,在半導體光催化反應中,一般與表面吸附的H2O、O2反應生成.OH和超氧離子O2-,能夠把各種有機物直接氧化成CO2和H2O等無機小分子,電子也具有強還原性,可以還原吸附在其表面的物質。激發態的導帶電子和價帶空穴能重新合并,并產生熱能或其他形式散發掉。
 
本產品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,改變惡臭氣體的分子鏈結構,使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉變成低分子化合物,如CO2、H2O等;利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合,進而產生臭氧。
 
UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧對有機物具有的氧化作用,對惡臭氣體及其它刺激性異味有的清除效果;惡臭氣體利用排風設備輸入到本凈化設備后,凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協同分解氧化反應,使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通過排風管道排出室外;利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵,破壞細菌的核酸(DNA),再通過臭氧進行氧化反應,*達到脫臭及殺滅細菌的目的。

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