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半導體行業用超純水設備工藝

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更新時間:2022-05-23 12:10:57瀏覽次數:151次

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半導體行業用超純水設備工藝  海德能北京水處理設備公司生產的半導體行業用超純水設備,根據不同客戶的用水需求,為客戶提供高質量的超純水設備,水質穩定。  一、半導體行
半導體行業用超純水設備工藝
  海德能北京水處理設備公司生產的半導體行業用超純水設備,根據不同客戶的用水需求,為客戶提供高質量的超純水設備,水質穩定。
  一、半導體行業用超純水設備概述:
  將水中的導電介質幾乎*去除,又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大于10~18.3MΩ*cm極限值。由于超純水設備的工藝是根據不同的入水水質和出水要求而設計的,針對不同的原水水質特點而設計超純水設備方案才是有效的方案,同時也是出水水質長期穩定達到要求的保證。

  二、半導體行業用超純水設備工藝介紹:
  1、傳統水處理方式:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→陽床→陰床→混床(復床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
  2、反滲透+離子交換:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→反滲透設備→純水箱→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置精密過濾器→用水點
  3、反滲透+EDI:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→反滲透設備→純水箱→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置精密過濾器→用水點
  目前制備電子工業用超純水的工藝基本上是以上三種,其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎上進行不同組合搭配衍生而來。
  半導體行業用超純水設備得到了廣大客戶的信賴和認可。可以滿足不同行業的用水需求,如果對我們的產品感興趣,可以我們的電話。



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