| 設(shè)備名稱 | 品牌廠商 | 型號 | 是否標(biāo)配 | 規(guī)格 | 數(shù)量 | 報價類型 | 售后服務(wù) | 成交價 |
| 高真空磁控濺射鍍膜機(jī) | 沈陽-托帕 | CK400 | 是 | 1.系統(tǒng)主要由濺射室、永磁磁控濺射靶（三個靶）、直流電源、全自動調(diào)諧射頻電源、樣品臺、泵抽系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)等組成。 2.濺射室極限真空度：≤6.6x10-5?Pa （經(jīng)連續(xù)烘烤除氣后）；? 系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l／S； 系統(tǒng)從大氣開始抽氣：濺射室40分鐘可達(dá)到6.6x10-4?Pa； 系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時后真空度：≤5Pa 3.真空室為D型手動前開門結(jié)構(gòu)，腔體打開方式采用手動前開門結(jié)構(gòu)，表面進(jìn)行電化學(xué)鈍化處理 4.濺射室中配有3套60高性能永磁共焦磁控濺射靶（濺射靶角度可調(diào)），各靶可獨(dú)立／順次／共同工作，磁控靶通水冷卻，磁控靶配有氣動擋板結(jié)構(gòu)。 5.系統(tǒng)配有500W直流電源2臺，500W全自動調(diào)諧射頻電源1臺 6.加熱旋轉(zhuǎn)樣品臺可放置一片樣品，?具有連續(xù)旋轉(zhuǎn)功能，旋轉(zhuǎn)0—20轉(zhuǎn)／分連續(xù)可調(diào)，可加溫至500℃。 7.系統(tǒng)配有氣體質(zhì)量流量控制進(jìn)氣系統(tǒng) 。 8.安裝臺架：整個設(shè)備安放在一個用承載式標(biāo)準(zhǔn)電箱上，箱體均進(jìn)行噴塑處理。拆卸方便占地小 9、提供冷卻水循環(huán) | 1.0 | 國內(nèi)含稅價; 人民幣 | 189800 |
暫無信息 |
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