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1400℃真空氣氛管式爐CVD系統(CVD-TF)

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更新時間:2022-07-14 16:50:22瀏覽次數:1267次

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【產品特點】 產品特點 提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環境 此款CVD生長系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。...
1400℃真空氣氛管式爐CVD系統(CVD-TF)

產品特點

 
提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環境
 
此款CVD生長系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。
 
產品性能
 
1、爐膛采用多晶莫來纖維真空吸附制成,溫場均勻節能50%以上
 
2、空氣導流隔熱技術保證箱內各部件的使用壽命及恒溫效果
 
3、啟動電爐,排溫風機同時自動運行,試驗結束后,排溫風機將繼續運行,直至爐體溫度低于60℃,排溫風機自行停止,有效保護了爐體表面
 
4、自動斷電、超溫保護功能、漏電保護功能,以確保使用的安全性
 
5、電路采用連續加熱輸出方式,雙回路供電,強弱電單獨走線提高了系統的穩定性
 
6、加熱模塊采用直流信號調節輸出功率,避免了感應電對控制信號的干擾
 
7、自動補償由于溫度或老化對硅碳棒阻值變化帶來的控溫影響,避免人為調節的不準確性和危險性
 
8、采用數顯流量顯示儀,配合質量流量控制器,采集數據并控制流量。具有控制精度高,重復性好,相應速度快,穩定可靠等特點。(氣體質量流量控制系統)
 
9、自動控制與手動控制切換功能,自動控制模式能通過設定值自動開啟關閉真空泵,使容器內保持在一定的真空壓力范圍內。手動控制模式使用用戶通過真空泵開啟關閉按鈕直接操作真空泵。以滿足不同實驗的需要。(中真空控制系統)
 
10電磁閥緩啟動技術,使電磁閥在真空泵開啟10秒鐘后打開,使爐管內系統壓力保持準確,也保證了廢氣不會返回到爐管系統影響實驗效果(中真空控制系統)
 
安全性
 
1、過升報警、菜單鎖定、過升防止、復電延時。
 
2、采用單向閥技術,使氣體流量在可控壓力范圍內控制,保證安全。
 
3、采用混氣罐裝置,使氣體可以在充分混合后導入工作室內,確保不會泄露。

產品參數
 
型號單溫區CVD-TF14P40CVD-TF14P50CVD-TF14P60CVD-TF14P80
 單溫區CVD-TF14T40CVD-TF14T50CVD-TF14T60CVD-TF14T80
性能使用溫度范圍300~1400℃
溫度分辨率1℃
控溫精度± 1℃
升溫速率0~20℃/min
加熱區長度200mm400mm
恒溫區長度70mm140mm
真空度-0.1MPa
空爐升溫時間≤15min
 配置爐管時升溫速度500℃以下≤5℃/min;500-1000≤10℃/min;1000-1200≤5℃/min;1000-1400≤2℃/min
構成外裝冷軋鋼板,表面耐藥品性涂裝
爐膛體多晶莫來石纖維
爐膛尺寸360*350*350mm560*350*350mm
爐管剛玉管
爐管尺寸Φ40/34*1000Φ50/44*1000Φ60/50*1000Φ80/70*1000
加熱器硅碳棒
加熱功率3KW5KW
斷熱層雙層強制風導流
打開方式
控制 器控制器P:進口程序控溫數碼顯示; T:7寸彩色觸摸屏程序控溫
控制方式使用微型電腦PID控制
設定方式P:輕觸五按鍵動作、數顯設定; T:手指觸摸輕點設定
顯示方式P:雙行LED數字顯示; T:彩色液晶屏顯示
定時0~999.9小時
運行功能定值運行、程序運行
程序模式P:程序運行、4條曲線、共40步; T:50步 可調用儲存程序
傳感器S型熱電偶
附屬功能P:校正功能; T:校正功能、實時曲線記錄、U盤數據導出
安全裝置過流漏電保護開關
質量流量控制系統氣路數量3路(可根據具體需要選配氣路數量)
流量范圍0-0500sccm(標準毫升/分,可選配)氮氣標準
精度±1%F.S
響應時間≤4s
工作溫度(流量計)5-45℃
工作壓力進氣壓力0.05-0.3MPa(表壓力)
系統連接方式采用KF快速連接波紋管、高真空手動擋板閥及數顯真空測量儀
中真空控制系統系統真空范圍10-100Pa
真空泵雙級機械泵理論極限真空度3x10-1Pa,抽氣速率4L/s,出氣口配有油污過濾器,額定電壓200V,功率0.55Kw
CVD系統配置1400度真空管式爐多路質量流量控制系統真空系統

1600℃真空氣氛管式爐CVD系統(CVD-TF)

【產品特點】 產品特點 提供具有真空、可控氣氛及高溫

氣體流量控制系統(ZLXT、ZKXT、FZXT)

【產品特點】 產品特點 設備為用戶提供具有可控氣氛的

1600℃真空氣氛管式爐(TF)系列

【產品特點】 產品特點: 氣路連接方式采用快速連接法

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