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分子束外延沉積速率監測/控制系統

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產品簡介

A system for multiple source monitoring in MBE deposition applications. For molecular beam analysis and deposition control.

詳細介紹

XBS 分子束外延沉積速率監測/控制系統(MBE Deposition Rate Monitoring/Control System)，適于精確的MBE分析，其他氣體分析和科學實驗使用。

XBS 分子束外延沉積速率監測/控制系統的高靈敏度和數據的快速采集，能夠提供生長速度低至0.01 ?/s的質譜信號。

·交叉離子源，束接收角同軸的橫斷面呈±35°

·離子源控制，用于軟離子化和表觀電勢質譜

·2mm束接受孔，以利特殊使用者操作

·一級過濾處增加射頻，抗污染物能力增強
·內置UHV兼容的水冷卻罩
·通過RS232、USB或Ethernet連接計算機，MASsoft軟件控制

·質量數范圍： 1～300 amu（標準配置）

500amu（選配）

·掃描速度： 100amu/s

·最小掃描步階： 0.01amu

·檢測濃度： 5ppb～99%

·穩定性： 24h以上，峰高變化小于±0.5%

·監測極限： 30 ions/s
·監測生長速率： 1? / min，或更低

XBS Monitor for the Molecular Beam Epitaxy Process (390 KB)

Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)

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