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上海西努光學科技有限公司
MC1000離子濺射儀由日立*公司自行設計制造
MC1000離子濺射儀 由日立公司自行設計制造,針對掃描電鏡的精細需求而設計,適合微觀結構較復雜的樣品,尤 其適合于場發射掃描電鏡的高倍率觀測應用。 | ![]() |
主要特點:
1. 操作方便且有記憶功能,LCD觸摸屏控制技術,可存儲五種處理方案;
2. 通過磁場控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡,從而使鍍層更均勻;
3. 通過選配測量單元可實現1nm至30nm的鍍層厚度控制。
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