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深圳維爾克斯光電有限公司
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透反射光譜測量系統采用電控獨立雙軸設計，配備高精度步進電機，控制發射端和接收端的角度測量，角分辨率達0.001°，重復精度達0.05°。光譜范圍覆蓋900-2500nm，通過軟件控制發射端和接收端的角度，實現快速的光譜測量，可用于透射/反射/散射/熒光/輻射等多種全角度模式的光譜測量。
近紅外全角度透反射測量系統，900-2500nm，應用于材料測量領域
樣品材料中的很多成份，當光束以不同的角度入射時，得到的透射率和反射率會因入射角度的變化而變化。通過測量不同角度入射，可獲取材料在正入射時所得不到的信息，確定材料的最敏感角度，可以為進一步的研究或設計測量儀器提供依據。
我們提供可見-近紅外全角度透反射測量系統搭配光譜儀和其他測量附件，可以實現光源的不同角度入射和接收，適用于mm量級樣品的透射光譜測量及反射光譜測量。透反射光譜測量系統采用電控獨立雙軸設計，配備高精度步進電機，控制發射端和接收端的角度測量，角分辨率達0.001°，重復精度達0.05°。光譜范圍覆蓋900-2500nm，通過軟件控制發射端和接收端的角度，實現快速的光譜測量，可用于透射/反射/散射/熒光/輻射等多種全角度模式的光譜測量。
主要特點：
-全角度測量：反射和透射，可以實現-90°至90°范圍測量，散射、熒光和輻射，可以實現0°至180°測量。
-多種角度測量模式：可以進行反射、透射、熒光、散射輻射等多種光譜測量
-精確角度控制：高精度電機，角度精度達0.05°
-多維調節樣品臺：樣品臺由高精度三維位移臺和三維旋轉臺組成，可實現樣品的6維調節
技術參數：
| 產品名稱 | 近紅外全角度透反射測量系統 |
| 產品型號 | XPNIR-RTM-A1 |
| 光譜范圍 | 900-2500nm |
| 有效像素 | 512 |
| 信噪比 | >10000：1@100ms integration |
| 測量時間 | 小于1秒 |
| 檢測器 | 帶制冷，可制冷至-20℃ |
| 光源光譜范圍 | 350-2500nm |
| 光源功率 | 100W |
| 光錐半角 | 3° |
| 入射范圍 | -90°-90° |
| 出射范圍 | 0-360° |
| 最小步距 | 0.005° |
| 重復精度 | 0.05° |
| 測量模式 | 反射測量、透射測量、散射測量、熒光測量、輻射測量等 |
| 樣品臺 | 高精度三維位移臺加三維旋轉臺 |
-快速測量：快速對樣品實現多種角度模式的光譜測量
-可選配件多樣：根據客戶的不同測量應用，可以選擇不同的光源、濾光片、偏振片等配件完成不同的測量應用
多種全角度測量模式：
光譜角度測量模式：
反射式角度測量模式：鏡面樣品的反射夾角0°~180°，實現光譜的全角度測量。
透射式角度測量模式：入射角-90°~90°，接收角和入射角成180°（同一直線），實現透射光譜的全角度測量。
散射和熒光角度測量模式：入射角-90°~90°的任意角度上變化，接收角0°~360°范圍內變化，實現散射和熒光光譜的全角度測量。
輻射角度測量模式：接收角0~360°范圍內變化。
主要應用：
-納米光學材料
-材料鍍膜
-光子晶體器件
-傳感器器件制備
-LED光源
-液晶顯示
-角度相關材料分析
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