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Scrubber尾氣處理裝置可處理氣體種類包括半導體、液晶以及太陽能等行業中蝕刻制程與化學氣相沉積制程中使用的特氣，主要包括SiH4、SiH2Cl2、PH3、B2H6、TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等。
Scrubber尾氣處理裝置
半導體工藝中常使用的化學物質及其副產物,一般依照其化學特性與其不同的影響范圍,可分為:
1 易燃性氣體如SiH4 H2等
2 毒性氣體如AsH3,PH3等
3 腐蝕性氣體如HF,HCl 等
4 溫室效應氣體如CF4,NF3等
由于以上四種氣體對環境或人體皆具有一定的危害性,必須防止其直接排放大氣中,所以,一般半導體廠都以加裝大型廢氣處理系統.但此系統僅以水洗滌廢氣.故其應用范圍于處理水溶性氣體,無法因應日新月異且分工細微的半導體工藝廢氣.
Scrubber尾氣處理裝置半導體工藝廢氣處理方式
依據廢氣處理的特性,在處理可分為四種處理方式:
1 水洗式(處理腐蝕性氣體)
2 氧化式(處理燃燒性,毒性氣體
3 吸附式(干式)(依照吸附材種類處理對應之廢氣
4 等離子燃燒式(各類型廢氣皆可處理)
各類型之處理皆有其優缺點及其適用范圍. 處理方式水洗時，設備便宜處理方式簡單，僅能處理水溶性氣體；電熱水洗式應用范圍較水洗時，運轉成本高；干式處理效率佳，不適用于容易堵塞或氣體流。
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