超高純氣體純化技術是有色金屬研究總院“十三五”重點產業化方向。在“十二五”期間項目科研成果基礎上研發的氣體純化材料，具有處理量大、去除雜質種類多、吸附深度大、使用壽命長等優點，并以此為核心技術開發出多個型號的惰性氣體、氫氣和氮氣等超高純氣體純化裝置。同時，有研總院自身具備不斷創新的研發能力，成套的純化材料生產、純化器組裝技術，以及完善的純化器性能測試條件，可根據用戶需求設計完整解決方案、定制非標產品，并提供各項性能檢測服務，目前產品已應用于理化所、、西南化工研究設計院、北京師范大學、北京航空航天大學、北京科技大學、國家有色金屬材料檢測中心，哈爾濱師范大學等單位獲得應用。
UP10M
工業用超高純氣體純化器采用活性金屬為化學吸附劑，當原料氣通過活性金屬純化床時，氣體中O
2，H
2O，N
2，CO，CO
2，CH
4等雜質氣體與活性金屬發生化學吸附反應，根據原料氣純度不同，一次純化后出口氣體純度即達到 7N-8N，可實現無人值守全自動運行，并具有實時監測、故障報警和反饋等功能。為保證產品質量，純化器系統管路連接全部采用 Swagelok 全自動軌道焊機焊接，漏率低于 10
－9 Pa；關鍵部件焊接、組裝、生產均在千級超凈環境中進射流沖蝕試驗機便于在各種條件下測定的磨損率。磨損率可 以用來確定在給定操作條件的材料。它也可以被用來預測使用壽命和壽命周期成本。
UP系列氣體純化器 
UP1L UP10M
委托上海正帆科技公司對 GRINM-UP1L 氬氣純化器性能檢測結果
| 氣體類型 | H2 | O2/Ar | N2 | CH4 | CO | CO2 | H2O | 單位 |
| 原料氣 | 0.074 | <0.01 | 0.248 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | 未測試 | ppm |
| 純化后 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | <0.01 | <0.033 | ppm |
部分用于現場照片： 
山西中升鋼廠光譜儀配套UP10M使用現場，分析用氣體純度達到光譜儀檢測所需的的綠色。
北京科技大學CVD設備用的多臺UP1L氬氣純化器
西南化工研究院定制 20MPa/30Nm
3 氬氣純化器
搭載氫氣純化的電解水制氫/在線純化系統，用于人造鉆石生產高純氫場合
UP10M
工業用超高純氣體純化器產品參數： l 原料氣純度要求：≥99.999%，He/Ar/H
2 /N
2 l 產品氣純度：≥99.99999%
l 產品氣雜質含量：
H
2O ≤5ppb
O
2 ≤10ppb
N
2 ≤10ppb（原料氣非 N
2 ）
H
2 ≤10ppb（原料氣非 H
2 ）
CO ≤10ppb
CO
2 ≤10ppb
CH
4 ≤10ppb
NMHC ≤10ppb
l 工作流量：≤10Nm
3 /h，可定制2-30Nm
3 /h
l 閥門：EP 級氣動隔膜閥
l 內置顆粒過濾器：2 微米
l 顯示屏：組態控制軟件，觸摸屏工業計算機控制
l 工作壓力：2.0MPa，氬氣可定制20兆帕高壓
l 出入口氣體壓差：0.2MPa
l 進出氣接口：1/4″VCR
l 純化柱及管路：EP級316不銹鋼
l 管路連接：Swagelok 自動軌道焊接
l 電源電壓及功率：220V-380V，10-20kw
l 產品外形尺寸：500×700×1600mm
氣體純化器是集成電路、LED、太陽能板、光纖、燃料電池等制造工藝中的重要裝備，并可有效提高離子濺射、薄膜生長、焊接、配氣等多項技術的工藝性能。UP10M
工業用超高純氣體純化器系列主要用于提供工業生產、分析測試中的超高純度工藝氣、保護氣等，也是氣體配制行業的關鍵設備之一。
| 氣體種類 | 產品用途 | 應用領域 |
| He | 稀釋氣純化 | 半導體制造業中光刻、干刻、化學氣相沉積工藝中混合氣 |
| Ar | 等離子體氣體、載氣純化 | 半導體制造業中干刻蝕、離子注入等 工藝中等離子體氣體，直讀光譜儀載氣 |
| N2 | 稀釋氣、檢漏氣純化 | 半導體制造業中稀釋氧化工藝、氣體濃度調節、檢漏氣體 |
| H2 | 還原氣、反應氣純化 | IC、LED 等制造業中外延工藝和擴散工藝氣體 |
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