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KDH-500Z微型真空電弧爐介紹 實驗室儀器設備

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具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號KDH-500Z

品       牌

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更新時間：2024-01-01 09:09:58瀏覽次數(shù)：289次

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產(chǎn)品簡介

簡要描述：微型真空電弧爐介紹 爐體全不銹鋼臥式設計，外形美觀大方，適用于高校及科研院所進行真空冶煉新材料的科研與小批量制備?？商岣吖ぁ⒛＞叩氖褂脡勖?，無氧化、無脫炭、表面光亮、變形小、節(jié)省能源無公害，并改變機械性能和冶金性能等優(yōu)點。

詳細介紹

微型真空電弧爐介紹
　　產(chǎn)品特點
　　1·爐體全不銹鋼設計，外形美觀大方
　　2·采用立式側部開門結構，結構新穎
　　3 .配置大口徑觀察窗，可實時觀察爐內的冶煉情況
　　4·冶煉溫度高，純氯保護熔煉溫度高3500度以上滿足稀貴金屬及超高溫金屬材料的冶煉
　　5·采用電弧熔煉專用的熔煉電源。功耗小
　　6·采用桌面式設計，易操作
　　7 配有操作模擬屏，控制數(shù)據(jù)直觀顯示，操作直觀簡潔
　　8.高真空設計，真空室小可快速抽真空真空度可達5×10E-4Pa及以上，氬氣消耗少
　　9.自帶冷水機，到貨即可使用。
　　10.采用超溫保護和加裝濾光玻璃保護眼睛
　　11.水冷銅電極可360度移動，操作靈活，同時水冷坩堝小巧可更換，可定制。
微型真空電弧爐介紹
　　主要技術參數(shù)
　　1、 設備電源總功率：20KW
　　2、 電源電壓：380V、叁相、50Hz
　　3、坩堝容量：30-50g(以鋼液)
　　4、熔煉方式：真空+氣氛方式
　　5、熔煉溫度：3000-3500℃
　　6、電弧功率：17Kw；
　　7、熔煉真空室尺寸：￠300*350
　　8、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室
　　9、電弧熔煉電流：額定電流≤500A
　　10、電弧熔煉坩堝： 單工位帶澆鑄
　　11、工作氣體：Ar氣；
　　12、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧
　　

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關鍵詞：貴金屬
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