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MA12 Mask Aligner 半自動光刻機

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更新時間：2024-03-07 17:52:27瀏覽次數：138次

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產品簡介

MA12 Mask Aligner 半自動光刻機用于工業研究和低成本生產的手動光刻機MA12是專為對準和曝光300毫米以下方形襯底和晶圓而設計的，適合于工業研究和生產。憑借靈活處理和過程控制解決方案，本設備主要用于封裝，包括3D圓晶級芯片尺寸封裝, 以及開發和生產敏感元件，如MEMS。

詳細介紹

MA12 Mask Aligner

用于工業研究和低成本生產的手動光刻機

MA12是專為對準和曝光300毫米以下方形襯底和晶圓而設計的，適合于工業研究和生產。憑借靈活處理和過程控制解決方案，本設備主要用于封裝，包括3D圓晶級芯片尺寸封裝, 以及開發和生產敏感元件，如MEMS。

亮點：
◆ 強大的工藝控制；

◆ 能夠可靠地處理彎曲晶圓片和敏感材料；

◆ 的光均勻性。

通過對準技術選項和可適應各種工藝環境的光學系統，MA12提供開發和使用光刻工藝所需要的靈活性。輔助操作系統和智能圖形用戶界面結合手動晶圓處理優點打造出強大的工藝控制和可靠性。

MA12所采用的光刻技術能夠將開發出的工藝輕松傳輸到 SUSS MicroTec 公司第二代 MA300 生產型光刻機上。