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ZY-1212中頻磁控真空鍍膜機

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更新時間：2023-02-07 09:49:27瀏覽次數：334次

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產品簡介

設備簡述中頻磁控真空鍍膜機主要用于在基片上鍍制金屬膜、半導體膜、絕緣膜、硬質膜、耐熱膜、耐腐蝕膜、超導膜、磁性膜、光學膜等各種特殊性能的薄膜

詳細介紹

設備簡述

中頻磁控真空鍍膜機主要用于在基片上鍍制金屬膜、半導體膜、絕緣膜、硬質膜、耐熱膜、耐腐蝕膜、超導膜、磁性膜、光學膜等各種特殊性能的薄膜。ZY-1212鐘表裝飾鍍膜機結合了離子鍍膜與磁控濺射的各種優勢，所鍍膜層光滑、上色均勻、亮度好、附著力強，非常適合在表盤、表帶等產品表面鍍制各種顏色和厚度的高質量的耐磨裝飾膜層。

近年來，中頻磁控鍍膜設備濺射技術已經逐漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優于直流磁控濺射鍍膜的特點是克服了陽極消失現象，減弱或消除靶的異常放電。因此提高了濺射過程的工藝穩定性，同時提高了介質膜的沉積速率倍數。ZY-1212鐘表裝飾鍍膜機集真空技術、中頻磁控濺射技術及膜層技術等多項技術于一體，采用全自動的控制方式，操作簡單可靠，且產能大，效率高，性能穩定可靠，可鍍制IP黑，玫瑰金，IP金，寶石藍，香檳金，炫銀，咖啡色，七彩，槍黑色，鋯金，玫瑰紅等各色膜層。

ZY-1212鐘表裝飾鍍膜機外形美觀、結構緊湊、性能多樣，被廣泛應用于家電鐘表、電器、高爾夫球頭、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃等表面裝飾性鍍膜，在鍍制超黑膜、純金裝飾膜、導電膜等領域有不可替代的優勢。

設備特點：

1.膜厚可控性和重復性好。能夠輕松鍍制預定厚度的薄膜，并且可以在較大的表面上獲得厚度均勻的膜層。

2.薄膜與基片的附著力強。

3.可制備特殊材料的薄膜。可以使用不同的材料同時濺射制備混合膜、化合膜。

4.電氣控制系統可手動/半自動、PLC全自動控制，可運行多種工藝設置，可靠性性高。

設備參數:

爐體尺寸	φ1200*H1200	有效空間	φ850*H900
工件直徑*數量	φ150*11個	標準配置	6個弧源、4對中頻
工作電壓/頻率	380V/50Hz	實際功率	90KW
應用技術	ZP+ARC PMB +LZY（選配）	靶材數量	磁控中頻圓柱靶8個/弧靶6個
極限壓力	5.0*10^-4Pa	漏率	<10^-3Pa.L/s
抽氣時間	大氣到4X10^-3 < 20分鐘	真空系統	分子泵、羅茨泵、旋片泵
標準涂層效果	IP黑，玫瑰金，IP金，寶石藍，香檳金，炫銀，咖啡色，七彩，槍黑色，鋯金，玫瑰紅等	電源類型	直流逆變電源、脈沖偏壓電源、中頻磁控電源、直流磁控電源
工件轉架結構	下轉架結構	真空室結構	立式單開門
生產周期	0.5-2小時/爐	外圍尺寸	L 3300W 2900H2500MM
控制方式	手動+半自動+全自動一體化/觸摸屏+PLC自己開發的鍍膜專用軟件	配套條件	循環水壓力：2-3KG/CM³ 水量：10T/H 壓縮空氣：4-6 KG/CM³
應用	裝飾鍍鍍膜	工作氣體	Ar、N₂、O₂、C₂H₂等
備注	設備可按客戶產品或特殊工藝要求訂做，以上信息僅供參考。

裝飾性涂層特性:
IP系列

顏色	金色	香檳	咖啡色	玫瑰紅	寶石藍	鉻白	銀灰	槍黑	超黑
厚度（µm）	0.3~2.0	0.3~2.0	0.3~2.0	0.3~2.0	0.3~2.0	0.3~2.0	0.3~2.0	0.3~2.0	0.3~2.0
硬度（HV）	300~900	300~900	300~900	300~900	300~900	300~900	300~900	300~900	300~900
鹽霧測試	> 48H	> 48H	> 48H	> 48H	> 48H	> 48H	> 48H	> 48H	> 48H