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單靶直流磁控濺射鍍膜儀

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更新時間：2023-10-18 10:00:33瀏覽次數(shù)：301次

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鄭州科創(chuàng)實驗儀器設(shè)備有限公司

經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：10條

所在地區(qū)：河南鄭州市

聯(lián)系人：全燕（銷售）

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產(chǎn)品簡介

靶材材質(zhì)	金銀銅鉻鎳鈦鎂鋁	靶材尺寸	50mm
產(chǎn)地	國產(chǎn)	濺射氣體	氬氣
樣品倉尺寸	80mm	樣品臺尺寸	80mm

單靶直流磁控濺射鍍膜儀
直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備，7寸人機界面，自動手動模式切換控制，功率可達1000w

直流磁控濺射
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電#分享秋日好天氣# 薄膜、合金薄膜等

詳細(xì)介紹

單靶直流磁控濺射鍍膜儀 直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備，7寸人機界面，自動手動模式切換控制，功率可達1000w

直流磁控濺射單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電#分享秋日好天氣# 薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等單靶直流磁控濺射鍍膜儀單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。單靶直流磁控濺射鍍膜儀所配電源為1000W大功率直流電源，可用于高能量的金屬濺射鍍膜，根據(jù)實驗需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實現(xiàn)各種材料的鍍膜操作

關(guān)鍵詞：人機界面

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