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上海螣芯電子科技有限公司
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| 產地 | 國產 |
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螣芯HS系列國產半自動紫外光刻機本設備是我公司專門要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、MEMS、化合物半導體、聲表面波器件的研制和生產，該機器是高校、研究所、企業用戶優選的高性價比機型。
螣芯HS系列國產半自動紫外光刻機
半自動光刻機-對準模式 自動
本設備是我公司專門要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、MEMS、化合物半導體、聲表面波器件的研制和生產，該機器是高校、研究所、企業用戶優選的高性價比機型。
主要技術參數：
1．曝光類型：單面曝光；雙面曝光；雙面對準單面曝光 可選
2．曝光面積：160×160mm；210×2100mm；310×310mm；可選
3．曝光照度不均勻性：≤2.5%（(Φ150mm 范圍）；
4．曝光強度：≥40mw/cm2可調；
5．紫外光束角：≤2?；
6．紫外光中心波長：365nm；405nm可選
7．紫外光源壽命：≥2萬小時；
8．曝光分辨率：0.8μm；
9．曝光模式：可選擇一次曝光或套刻曝光；
10．顯微鏡掃描范圍： Y：±30mm；
11．對準范圍：X、Y±5mm（移動精度0.5um），Q±6°（移動精度0.001°）
12．對準精度：±0.5um；
13．分離量；0～1000μm可調；
14．接觸－分離漂移：≤1μm；
15．曝光方式：真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式；
16.掩模版尺寸：3″×3″、4″×4″、5″×5″、7″×7″9″×9″13″×13″各一件；
17.標配承片臺： 2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸、8 、12、英寸各一件；
18.標準配件可兼容樣片厚度：0.1-6 mm；
19.可設計工作厚度：50 mm；
20.對準系統：CCD
螣芯HS系列國產半自動紫外光刻機
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