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MSD烘箱高溫超低濕烘箱濕敏烤箱 烘焙容易產生老化，以及烘焙受潮超過 0.1wt%的元件產生損 害等原因，推薦使用 40°C + 5%RH 或是 90...

超低濕烘箱高溫低濕烤箱濕敏原件烘箱滿足各種濕敏元件烘烤條件的專用烘烤設備，可實現：40℃±5%Rh～90℃/±5%Rh125℃~150℃/&...

芯片真空存儲箱 真空充氮儲存柜 真空氮氣柜一種用于存儲芯片等高價值物品的特殊存儲設備，它采用真空密封的存儲方式，可以有效地防止芯片受到空氣氧化和潮氣的影響，從而...

精密熱板光刻膠烤膠臺 堅膜烘膠臺光刻膠在曝光完成后，光刻膠需要經過再一次烘烤，因為這次烘烤在曝光后，所以稱為“曝光后烘烤"，簡稱后烘或堅膜，英文為Post Ex...

可程式HMDS真空 烘箱HMDS真 空烘箱用于光刻膠粘合的 HMDS 氣相沉積晶圓基底脫水烘烤

真空保存箱 真空儲存柜真空防潮柜適用于工廠、高等院校、科研等場所，適用于各類化工原料、貴重金屬、金屬粉末等各種固體、粉狀、糊狀、液體，電子產品（半導體、電路板、...

真空防潮存儲箱真空儲存柜真空干燥柜彩色觸摸屏界面，集成式控制，位于箱體上方，可自動/手動控制，，也可用于材料器件、部件、元件的脫濕處理。

HMDS氣相成底膜烘箱真空HMDS氣相烘箱在晶圓上行噴涂hmds預處理的工藝，將晶圓表面親水性的置換為疏水性的，使晶圓表面接觸角達到65或更高。

真空存儲柜 真空干燥柜 真空氮氣柜適用于各類化工原料、貴重金屬、金屬粉末等各種固體、粉狀、糊狀、液體，電子產品（半導體、電路板、電子成品、芯片、電池板、電池片、...

HMDS預處理機H-2智能HMDS真空烘箱為半導體應用的光刻膠粘合促進劑工藝設備，

反轉真空烘箱圖像反轉氨氣爐用于鈑金加熱、淬火、退火、焊接等工藝；在電子制造業中，可以用于半導體器件制造中的退火和腐蝕等工藝；在航空航天制造業中，可以用于航空發動...

圖像翻轉烘箱，光刻圖形反轉設備主要用于剝離過程，特別是在柔性電極、電極的制作以及其他一些MEMS器件工藝中。通過底切側壁形態，可以防止沉積的材料在光刻膠邊緣和側...

掩膜版HMDS真空烘箱hmds烤箱使基底表面由親水性變為疏水性，增強表面的黏附性（HMDS-六甲基二硅胺烷）。適用于硅片、麟化銦、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、...

防凝露高低溫濕熱箱除濕恒溫恒濕試驗箱溫度試驗箱在高溫段持續輸入箱內進行空氣置換，可將箱內空氣露點降至露點。其次在降溫段保持干空氣的輸入，維持箱內對外界空氣形成微...

超低濕恒溫恒濕箱 低溫低濕實驗箱是模擬GB/T10586-2006濕熱試驗箱技術條件、GB/T10589-2008低溫試驗箱等技術條件；GB/T11158-20...

真空烤箱 可程式真空箱 自動真空烘箱專為干燥熱敏性、易分解和易氧化物質而設計，能夠向內部充入惰性氣體，特別是一些成分復雜的物品也能進行快速干燥。

氮氣潔凈烘箱光刻膠無塵烘箱 百級烘箱適用于IC封裝、光刻膠固化、銀膠固化、電子液晶顯示、LCD、CMOS、MEMS、醫藥、實驗室等生產及科研.

HDMS烘箱HDMS真空烘箱HDMS預處理烘箱保護裝置：緊急停止，HMDS藥液泄漏報&警提示，HMDS低液位報&警，超溫保護，漏電保護，過熱保護等

低濕度恒溫恒濕箱 低溫低濕箱 10濕度試驗箱模擬試品在溫濕度變化環境條件下加載模擬振動的適應性試驗及對電子元器件的安全性測試提供可靠性試驗、產品篩選等。

HMDS真空系統 HMDS預處理系統 圖像反轉烘箱可快速、均勻、經濟高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 對晶圓表面進行底漆處理，從而改善光刻膠的附著力。