超純水設備采用了“反滲透+EDI+拋光混床"相結合的技術，專用于進行超純水生產。它的出水電阻率可達18MΩ*cm(25℃)，在半導體行業中應用價值很高。隨著我國在全球半導體產業發展中的地位日益提高，超純水的市場需求也明顯增長。超純水設備生產超純水具有生產質量穩定、無酸堿再生、自動化強、污染小的優點，能耗也比較低，對促進半導體產業發展有積極作用。

　　反滲透膜是超純水設備中的一項核心技術。這是一種能實現納米級物質過濾分離的高新技術，可以用來分離去除超純水中的有機物、金屬離子、礦物質、微生物和細菌等雜質。它的膜通量大、水滲透效果好、水分子透過率高，并且具備良好的抗污染能力，不易堵塞。

　　EDI技術是實現超純水深度脫鹽的關鍵技術。通過EDI技術可以帶電荷運行的優點，可以促使超純水脫鹽時的離子遷移速度加快，從而有效提高脫鹽率。這個過程中不產生酸堿廢液，能省去酸堿中和反應處理步驟，減輕了后續工藝的生產負擔，也降低了環境污染。拋光混床技術是超純水設備的末端工藝，有力保證超純水出水水質穩定達標。

　　超純水設備中采用了智能化程序，操作十分靈活，能節約人工成本。它運行無死水，運行環境好，性能穩定，無須更換樹脂，具有很高的性價比。經過超純水設備生產后產生的超純水，成分中基本只含有氫原子和氧原子，不會對產品質量造成影響。

　　除了半導體行業之外，該設備還能為食品、醫療、化妝品、生物科技、軍工、航天等領域提供超純水生產服務，具有廣闊的發展前景。