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JY-S100離子濺射儀(磁控濺射)

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更新時間:2023-11-03 11:54:36瀏覽次數:232次

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產品簡介

JY-S100離子濺射儀(磁控濺射)JY-S100磁控離子濺射儀是一款結構緊湊的桌面小型鍍膜系統,在不同類型的樣品,如生物標本和材料樣品制備中發揮著至關重要的作用,特別適用于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜。 分類: 電鏡制樣設備, 鍍膜儀, 首頁推薦 標簽: 噴金儀, 小型離子濺射儀 Brand:廣州競贏

詳細介紹

描述

JY-S100磁控離子濺射儀是一款結構緊湊的桌面小型鍍膜系統,特別適用于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜。
在掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備中,JY-S100磁控離子濺射儀在不同類型的樣品,如生物標本和材料樣品制備中發揮著至關重要的作用。
對于生物標本,JY-S100磁控離子濺射儀有助于在樣品表面形成一層導電層,防止荷電效應并減少電子束對樣品表面的損傷。這種導電層使得在不影響其完整性的情況下更好地成像細胞、組織和纖維等微妙的生物結構。高質量的鍍膜還能增強二次電子信號,從而提高圖像分辨率和對比度。
對于材料樣品,JY-S100磁控離子濺射儀在給樣品鍍上均勻且薄的導電層方面至關重要,使得樣品的表面形貌和成分能夠進行高分辨率成像。這對于非導電材料(如陶瓷、聚合物和復合材料)尤為重要,因為荷電效應可能導致成像偽像和失真。JY-S100提供的精確且一致的鍍膜確保了SEM圖像準確地反映了樣品的表面特征,使研究人員能夠深入了解材料的性能和性能。
主要特性
通過高效低壓直流磁控頭進行冷態精細的噴鍍過程,避免樣品表面受損。
操作容易快捷,控制的參數包括放氣以及氬氣換氣控制。
數字化的噴鍍電流控制不受樣品室內氣壓影響,可得到一致的鍍膜速率和高質量的鍍膜效果。
可使用多種金屬靶材:Au, Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd(Au靶為標配),靶材更換快速方便。

技術參數

濺射系統
樣品倉尺寸120 x120mm
靶材Au 靶為標配,可選 Pt,直徑 57mm x 0.1mm 厚
標準樣品臺可以裝載 12 個 SEM 樣品座,高度可調范圍為 60mm
※旋轉傾斜樣品臺(選配)旋轉速度:0~60rpm 連續可調,傾斜角度:-90°~ 90°連續可調;
不銹鋼腔體:直徑 120mm X 高 75mm;
觀察窗:直徑 120mm X 高 45mm;
標配旋轉臺直徑 40mm,可放 4 個標準樣品臺,其它規格可訂做;
具有雙重鎖緊裝置,可確保樣品在旋轉傾斜時不會松動脫落。
濺射電流微處理器控制,安全互鎖,可調,電流 5~30mA,程序化數字控制
計量表真空: Atm - 1*10-3mbar,電流:0~99mA
控制方法帶有“開始"“暫停"按鈕的微處理控制器(1-999s),自動抽氣、濺射、關機后自動放氣。
真空系統
抽氣速率133L/MIN
極限真空10-4 mbar 級
噪音56dB

 

 

 

 

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