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SFEW-3型超臨界納米粒子制備設備

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更新時間:2022-09-07 15:53:23瀏覽次數:247次

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產品簡介

超細微粒,特別是納米級粒子的研制,在當前的*中已形成為一個熱門領域,在材料、化工、輕工、冶金、電子、生物醫學領域得到廣泛應用。 一、概述 SFEW-3型超臨界納米粒子...

詳細介紹

    超細微粒,特別是納米級粒子的研制,在當前的*中已形成為一個熱門領域,在材料、化工、輕工、冶金、電子、生物醫學領域得到廣泛應用。
一、概述
SFEW-3型超臨界納米粒子制備裝置利用超臨界流體制備細微粒子這一技術,可以進行顆粒、微球、微膠囊、多孔材料、脂質體及其它微細材料的加工和制備。超細粒子的制備有多種方法,超臨界流體沉積技術作為一種*,能夠更準確的控制結晶過程,能夠生產出平均粒徑很小的細微粒子,而且還可控制其粒度尺寸的分布。

二、制備工藝

    RESS(超臨界溶液快速膨脹)法和GAS(氣體抗溶劑結晶)法,由GAS法派生而來的過程有SAS、ASES(PCA)、SEDS等。RESS法制備超細微粒利用了溶質的溶解度隨SCF(超臨界流體)密度變化的關系,當從超臨界流體狀態迅速膨脹到低壓、低溫的氣體狀態,溶質的溶解度急劇下降,這個轉變使溶質迅速成核和生長成為微粒而沉積。
    GAS法主要原理:當高壓氣體溶入含有溶質的溶液相內,使其中的溶劑發生膨脹,于是降低了溶質在其中的溶解度,導致該溶質的結晶析出。
    ASES過程與GAS過程不同之處:在ASES過程中顆粒形成與干燥同時進行,形成的顆粒中殘余的有機溶劑含量少。而GAS過程的結晶沉淀過程都是在液相中發生的,需要經過長時間的洗滌操作才能得到干燥的固體顆粒。SEDS過程(超臨界流體強化溶液分散的沉淀過程)是將超臨界CO2、含有溶質的水溶液和有機溶劑一起噴入結晶器,并經短暫的接觸和混合過程。
    超臨界流體沉積技術應用有以下兩種:RESS(超臨界溶液快速膨脹)法和GAS(氣體抗溶劑結晶)法。本裝置主要采用RESS(超臨界溶液快速膨脹)法,但可兼顧GAS(氣體抗溶劑結晶)法。

二、主要技術參數:

1、超臨界形成釜及可視結晶器工作壓力:30MPa。

2、工作溫度:室溫-85℃

3、結晶器容積1000mL

4、超臨界形成釜容積:1000mL

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