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GVC-2000TD高真空磁控離子濺射儀

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更新時間:2023-11-07 10:42:45瀏覽次數:1041次

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產品簡介

描述產品優勢:?可制備各種金屬、單質、無機非金屬薄膜?不破真空情況下

詳細介紹

描述

產品優勢:

? 可制備各種金屬、 單質、 無機非金屬薄膜

? 不破真空情況下, 可實現多層復合膜制備

? 一鍵操作, 全自動控制, 智能化程度高

? 一致性、 重復性好

? 內置多重靶材工作參數, 無需摸索鍍膜工藝

? 體積小, 結構緊湊, 非常節約空間

 

產品參數:

外形尺寸(主機)

424(L)×345(D)×420(H)

輸入電源

220V/50Hz    1000W

濺射靶頭 1

直流磁控濺射

可用靶材

金屬靶材

濺射靶頭 2

射頻磁控濺射

可用靶材

無機非金屬靶材

真空系統

渦輪分子泵+旋片式真空泵

抽速

90L/s + 1.1L/s

真空測量

復合式真空規

量程范圍

1E-3 ~ 1E5Pa

真空室

φ 200×130mm 高硼硅玻璃

抽氣節拍

10 分鐘(≤5E-3Pa)

樣品臺尺寸

φ 90mm

樣品臺切換

自動控制

濺射靶材尺寸

φ 57mm(厚度 0.1-2mm)

工作真空

0.1-2Pa

操作界面

7 英寸 TFT 觸摸式液晶屏

操作語言

中文(可選其它語言)

冷水機

小型臺式制冷機

冷水機功率

180W

預濺射擋板

標配全自動控制預濺射擋板

 

膜厚儀(選配)

可實時顯示鍍膜厚度,并通過設定來控制鍍膜過程,測量精度 0.01nm,設定精度 0.1nm,單次設定范圍 1-999nm

溫控組件(選配)

樣品臺加熱模塊 300℃/500℃

旋轉組件(選配)

傾斜旋轉、行星旋轉等

小車(選配)

將主機、射頻電源、冷水機等組裝在一起,整體性好

安裝環境

220V/10A 三孔插座一個、純度 4N 及以上的高純氬氣(出口壓力 0.12MPa)

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