詳細摘要： 真空鍍膜技術基片升溫低，沉積速率高為主要特點，該沉積工藝在電導膜、光學膜、保護膜、裝飾膜等諸多方面都有廣泛應用
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錦州市潤佳真空設備科技有限公司
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詳細摘要： 真空鍍膜技術基片升溫低，沉積速率高為主要特點，該沉積工藝在電導膜、光學膜、保護膜、裝飾膜等諸多方面都有廣泛應用
產品型號：所在地：更新時間：2023-03-03 在線留言
詳細摘要： FTZKDM-998真空鍍膜機參數真空鍍膜技術基片升溫低，沉積速率高為主要特點，該沉積工藝在電導膜、光學膜、保護膜、裝飾膜等諸多方面都有廣泛應用
產品型號：所在地：更新時間：2023-03-02 在線留言
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