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錦州市潤佳真空設備科技有限公司
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FTZKDM-998真空鍍膜機參數真空鍍膜技術基片升溫低，沉積速率高為主要特點，該沉積工藝在電導膜、光學膜、保護膜、裝飾膜等諸多方面都有廣泛應用
FTZKDM-998真空鍍膜機參數
真空鍍膜技術基片升溫低，沉積速率高為主要特點，該沉積工藝在電導膜、光學膜、保護膜、
裝飾膜等諸多方面都有廣泛應用。本設備是集磁控濺射和弧源為一體較為*的生產設備，
可生產不同規格的金屬膜產品。
主要技術指標
1. 整機外形尺寸：3200*1600*2438mm（長x寬x高）
真空室外型尺寸：φ998x700mm（有冷水）
2.極限真空度：6.7x10-4Pa
3.恢復真空度：清潔空爐由大氣抽至6.7x10-3Pa≤30min
4.壓升率：1Pa/h（清潔空爐）
5功率:
磁控源電源功率:10KVA
弧電源功率:3KVA
6.矩形磁控靶材尺寸：384x131x12mm
7.弧源靶材尺寸：φ100x70mm
8.烘烤溫度：0~500℃
9.冷卻水：流量：20~35L/min
10.充氣系統：質量流量計 3路顯示
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