鑫鐳真空技術(shù)（東莞）有限公司
詳細(xì)摘要： SRS-500型磁控濺射PVD系統(tǒng)，最多可配備五個獨立濺射靶位，采用渦輪分子泵組和自動壓控系統(tǒng)等配置，適用于沉積各種金屬和反應(yīng)膜層
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-05 在線留言
詳細(xì)摘要： 系統(tǒng)概述：DC/RF磁控濺射系統(tǒng)是最基本的真空等離子薄膜沉積技術(shù)，是通過DC、RF（13.56MHz）或脈沖MF（10200kHz）電源對金屬、半導(dǎo)體及其化合物...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-04 在線留言
詳細(xì)摘要： 主要特點：大抽速真空系統(tǒng)，即插即用快捷方便；最多5個獨立磁控濺射靶位可輕松切換功能，快速制作多層金屬和反應(yīng)介質(zhì)膜；預(yù)設(shè)參數(shù)全自動進(jìn)料和鍍膜沉積無需人工干預(yù)；自動...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-03 在線留言
詳細(xì)摘要： SRS-400型磁控濺射PVD系統(tǒng)，配備三組磁控濺射靶群及控制系統(tǒng)，適用于沉積各種單/多層膜系.可實現(xiàn)單靶直濺和多靶共射功能
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-02 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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