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鑫鐳真空技術(東莞)有限公司
SRS-400型磁控濺射PVD系統,配備三組磁控濺射靶群及控制系統,適用于沉積各種單/多層膜系.可實現單靶直濺和多靶共射功能
SRS-400型磁控濺射PVD系統,配備三組磁控濺射靶群及控制系統,適用于沉積各種單/多層膜系.可實現單靶直濺和多靶共射功能。制備氮化物和氧化物反應膜濺射功能,可沉積金屬、合金、化合物、半導體、介質復合膜和其它化學反應膜層,非常適合科研實驗或新材料研發使用,適用于快速多層金屬或合成膜沉積工藝。
主要特點:
應用領域:
主要配置:
系統結構圖如下:
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技術指標 | 可選配置和增加配件 |
三組磁控濺射靶全自動沉積 | 1200L/s渦輪分子泵系統或低溫泵系統 |
自動記錄并生成沉積薄膜參數圖,USB端口數據傳輸到PC | DC PLUS電源,用于化合物共射鍍膜 |
自動基板公轉控制 | 石英晶體膜厚控制 |
系統壓力自動控制濺射壓力 | 備用腔室內膽 |
2路MFC布氣系統 | 電阻熱主蒸發系統 |
極限真空7.0E-7torr(700L/s) | 射頻離子輔助沉積 |
1*RF和2*DC電源可三靶共濺 | 射頻等離子基板清洗 |
電源規格:380V – 50/60 HZ-35A | 樣品基板公自轉旋轉 |
尺寸:高125cm×寬75cm×深65cm | 多路反應氣體MFC |
質量:?155KG | 腔體密封套件 |
更多PVD系統工藝說明可查閱本站點解決方案目錄:/jjfa
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