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SRS-400型多靶磁控濺射鍍膜機 定制科研實驗全自動濺射PVD系統

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產品簡介

SRS-400型磁控濺射PVD系統,配備三組磁控濺射靶群及控制系統,適用于沉積各種單/多層膜系.可實現單靶直濺和多靶共射功能

詳細介紹

 

SRS-400型磁控濺射PVD系統,配備三組磁控濺射靶群及控制系統,適用于沉積各種單/多層膜系.可實現單靶直濺和多靶共射功能。制備氮化物和氧化物反應膜濺射功能,可沉積金屬、合金、化合物、半導體、介質復合膜和其它化學反應膜層,非常適合科研實驗或新材料研發使用,適用于快速多層金屬或合成膜沉積工藝。

主要特點:

  • 多膜系沉積功能,可濺射絕大多數膜層
  • DC/RF濺射電源可以使多種膜系隨意切換
  • 大抽速真空系統即插即用
  • 多靶共鍍功能滿足多層多膜系混鍍要求
  • 全自動壓力控制,更利于沉積的均勻性
  • 預設參數全自動成膜過程無需人為干預

應用領域:

  • 金屬和介質膜
  • 薄膜傳感器的制造
  • 光學元件
  • 納米與微電子
  • 太陽能電池

主要配置:

  • 圓筒型真空室尺寸Ф400mm x320mm
  • 500L/s渦輪分子泵+雙級旋片泵組合
  • 全量程B-A復合真空規
  • 三組2英寸磁控濺射靶
  • 公自轉陽級基片掛架,更利于大片沉積的均勻性保證。
  • 2DC+1RF濺射電源
  • VAT全自動壓控閘閥
  • 石英晶體監測系統用于實時厚度測量(1 nm精度)
  • 精密氣體質量流量計(MFC)
  • 基板600°C短波紅外可調加熱器
  • 全自動腔體上蓋開啟裝置
  • 自動PLC控制系統可提供手動調試模式
  • 10英寸工控觸控屏,操作簡單易用

系統結構圖如下:

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技術指標 可選配置和增加配件
三組磁控濺射靶全自動沉積 1200L/s渦輪分子泵系統或低溫泵系統
自動記錄并生成沉積薄膜參數圖,USB端口數據傳輸到PC DC PLUS電源,用于化合物共射鍍膜
自動基板公轉控制 石英晶體膜厚控制
系統壓力自動控制濺射壓力 備用腔室內膽
2路MFC布氣系統 電阻熱主蒸發系統
極限真空7.0E-7torr(700L/s) 射頻離子輔助沉積
1*RF和2*DC電源可三靶共濺 射頻等離子基板清洗
電源規格:380V – 50/60 HZ-35A 樣品基板公自轉旋轉
尺寸:高125cm×寬75cm×深65cm 多路反應氣體MFC
質量:?155KG 腔體密封套件

 

更多PVD系統工藝說明可查閱本站點解決方案目錄:/jjfa

 

鑫鐳真空專業為企業和科研項目制作用于薄膜材料實驗的小型多靶濺射系統,提供真空鍍膜機的全系統整合、升級和專用系統定制以及真空設備整機維修、安裝等服務。質量可靠,提供多個案列參考。

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