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初級(jí)會(huì)員 | 第1年

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  • 化學(xué)氣相沉積（PECVD）

    是一種在沉積腔室利用輝光放電使其電離后在襯底上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)沉積的半導(dǎo)體薄膜材料制備和其他材料薄膜的制備方法

    型號(hào)： PECVD-601... 所在地：北京市參考價(jià)： ￥10更新時(shí)間：2025/5/16 16:10:34 對(duì)比
    PECVD氣相沉積鍍膜
  • 德國(guó)SENTECH 化學(xué)氣相沉積（預(yù)真空室）

    SI 500 PPD是電容平板式PECVD等離子沉積設(shè)備，主要用于SiO2，SiOxNy，SiNy，a-Si，SiC薄膜的沉積 。適用于2“--8“樣片的薄膜沉...

    型號(hào)： SI 500 PP... 所在地：北京市參考價(jià)： ￥10更新時(shí)間：2025/5/16 8:34:46 對(duì)比
    化學(xué)氣相沉積PECVD
  • 德國(guó)SENTECH 電感耦合化學(xué)氣相沉積

    SI 500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設(shè)備，利用ICP高密度等離子源來(lái)沉積電介質(zhì)薄膜。可在極低溫度下( 100ºC)沉積高質(zhì)量SiO2, S...

    型號(hào)： SI 500 D 所在地：北京市參考價(jià)： ￥10更新時(shí)間：2025/5/16 8:07:04 對(duì)比
    化學(xué)氣相沉積PECVD
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