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集成電路后段光刻膠去除技術進展2025/5/19
摘要:光刻膠去除是集成電路制造的關鍵工藝之一。隨著集成電路技術的發展,先后出現了鋁鎢金屬連接、銅互聯大馬士革工藝,尤其是硬掩膜銅互聯大馬士革工藝的出現,對光刻膠去除工藝提出了極大的挑戰。結合圖形化工藝...
電子束曝光技術(EBL)簡介2025/4/30
電子束光刻(EBL)在現代電子工業中,尤其是集成電路領域精細圖案的制作中占據核心地位。這項技術起源于早期的掃描電子顯微鏡,其基本過程是將一束電子掃描過覆蓋有對電子敏感的光阻薄膜的表面,從而以所需圖案的...
等離子體先進蝕刻技術2025/4/30
等離子體蝕刻技術在半導體制造工業中扮演著至關重要的角色,本對其進行介紹,分述如下:等離子體脈沖蝕刻技術原子層蝕刻技術帶狀束方向性蝕刻技術氣體團簇離子束蝕刻技術1等離子體脈沖蝕刻技術等離子體脈沖蝕刻技術...

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